Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS VANTAGE RADOX #9211114 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS VANTAGE RADOX ist ein fortschrittlicher Rapid Thermal Processor (RTP), der speziell für die Halbleiterindustrie entwickelt wurde. Dieses Gerät bietet eine Hochgeschwindigkeits-Thermobearbeitung von Wafern bei niedrigen Temperaturen und steuert die Wafertemperatur bei Bedarf genau. AMAT VANTAGE RADOX ist eine kompakte, in sich geschlossene Einheit mit einem One-Box-Design, das eine einfache Bedienung und Wartung ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN VANTAGE RADOX verfügt über eine große horizontale Ofenkammer, die ein maximales Spiel des Substrats ermöglicht. Dies bietet ausreichend Platz für die parallele Bearbeitung mehrerer Wafer mit hoher Genauigkeit. Die Präzisionstemperaturregelung des Systems ist sehr zuverlässig und wiederholbar, mit einem Temperaturbereich von -150 ° C bis 400 ° C. Es verfügt über eine leistungsstarke Ofenwindgeschwindigkeit von bis zu 40 m/s und einen hohen Wärmefluss von bis zu 1000 W/cm ^ 2 für eine schnelle thermische Hoch- und Stabilisierung. Das Gerät ist mit einem mittleren bis niedrigen Vakuumspiegel ausgelegt, um die Waferoxidation zu reduzieren und hochwertige thermische Verarbeitungsergebnisse zu ermöglichen. Darüber hinaus bietet die VANTAGE RADOX-Maschine ein integriertes Gaslieferwerkzeug mit einer Reihe von Gasversorgungsmöglichkeiten, die auf die spezifischen Bedürfnisse der Anwendung zugeschnitten werden können. Dieses einzigartige Merkmal ermöglicht die Steuerung der Gasumgebung und deren Zufuhr während des thermischen Prozesses. Es gibt auch eine fortschrittliche Gassicherheitsanlage für maximalen Benutzerschutz. Das Modell kann eine Reihe von Wafergrößen unterstützen, von den gängigsten 200-mm und 150-mm-Wafern bis hin zu 450-mm-Wafern. Diese Vielseitigkeit erleichtert die thermische Verarbeitung jedes Prozesses und ist eine ideale Lösung für Anwendungen wie Hochwärmeglühen, Oxiddielektrizitätsabscheidung und andere fortschrittliche Materialbehandlungen. AMAT/APPLIED MATERIALS VANTAGE RADOX ist ein fortschrittliches Gerät, das den Anforderungen der modernen Halbleiterindustrie gerecht wird. Es bietet präzise, schnelle und sichere thermische Verarbeitungsfunktionen mit seinen verbesserten Temperatur-, Gas- und Ofensteuerungsoptionen. Die fein abgestimmte Gaslieferung, das anpassungsfähige Wafer-Handling und die fortschrittliche Sicherheitsausrüstung dienen dazu, die maximale Verarbeitungsqualität zu fördern und gleichzeitig die Sicherheit des Bedieners zu gewährleisten.