Gebraucht AIXTRON 2400 G1 #9191892 zu verkaufen

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Hersteller
AIXTRON
Modell
2400 G1
ID: 9191892
Weinlese: 1991
MOCVD Reactor AlGaAs System Main chamber LEYBOLD D65 Pump 15" x 2" and 8" x 3" Configuration: (2) Ga lines (2) In (2) Al (1) Mg (1) Zn (1) Spare (2) As (1) Ph (1) Si2H6 (1) HCl Temperature range: Up to 850°C Used for AlInGaP LEDs Gases used: Arsine, Phosphine, DiSi2H6, HCL Windows based operating system: Upgraded from OS9 Usage: ~4,000 Hours Installed with N2 and H2 disconnected Purged with N2 before shut down (3) / (4) Lauda baths 1991 vintage.
AIXTRON 2400 G1 Reaktor von AIXTRON SE ist eine Halbleiterabscheidungsanlage für skalierbare Produktion. Es ist ein fortschrittliches Niederdruck-CVD-System, das eine überlegene Prozesssteuerung und Flexibilität bietet. Dieser Reaktor bietet eine breite Palette von Fähigkeiten, darunter Oxid-, Nitrid- und Polysiliziumabscheidung sowie thermisches Oxid und andere siliziumbasierte Verfahren. Dank seiner Automatisierungs- und Konfigurationsmöglichkeiten ist es eine ideale Wahl für die Dünnschichtabscheidung. 2400 G1 wurde entwickelt, um eine einheitliche und wiederholbare Prozessqualität zu bieten. Es ist eine vollautomatische Einheit, die mit einer Vielzahl von Gasquellen verbunden ist, um eine vollständige Prozessflexibilität zu ermöglichen. Die Maschine ist auch mit fortschrittlichen Diagnosen wie Temperaturprofilierung, Gasdurchflussmessung und Abscheidungsprofilierung für maximale Prozesskontrolle ausgestattet. Der Reaktor ist modular aufgebaut und besteht aus sechs horizontalen Reaktionskammern mit je drei Reaktoren in jeder Kammer. Die Mittelwände der Reaktionskammern sind aus Edelstahl, die Außenwände aus Keramik. Alle Reaktoren sind mit Transportschienen verbunden, die es ihnen ermöglichen, sich zwischen aufeinanderfolgenden Kammern zu bewegen. Diese Funktion gewährleistet gleichmäßige Abscheideraten im gesamten Werkzeug. AIXTRON 2400 G1 hat einen maximalen Temperaturbereich von 90 ° C bis 1000 ° C und einen Prozessdruck von 5 mBarg. Es ist mit Gasinjektoren ausgestattet, die in verschiedenen Positionen angeordnet sind, um eine optimale Gasverteilung zu ermöglichen. Darüber hinaus ermöglicht der Reaktor den Einbau mehrerer Gase und beinhaltet speziell dafür ausgelegte Gaskästen und Abgasleitungen. Mit einer breiten Palette von Funktionen ist 2400 G1 ein zuverlässiges und hocheffizientes Asset, das ein hohes Maß an Kontrolle und Wiederholbarkeit bietet. Das Modell eignet sich für eine Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsprozessen und ist auf die neuesten Anforderungen der Halbleiterproduktion ausgelegt.
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