Gebraucht AIXTRON 2800 G4 HT #9195750 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9195750
Weinlese: 2007
MOCVD System
42"x 2", (6) Satellite
Loaded for each run: 7"x 2" per satellite
Gas lines: 3 NH3, 1 SiH4
LAUDA: RM 25 S/G, RM 6 S/K
EPISON4 Installed
MO Lines:
TMG
TMA
(2) Cp2Mg
(2) Indium
(2) TEG
MO Materials:
TMG
TMA
Mg
In
TEG
SiH4
NH3
Measure the reflectance & temperature: EPITUNE III
Process pump: EBARA A25
WKL230 Chiller included
External scrubber
HORIBA STEC
HITEC
Gas: GaN
2007 vintage.
AIXTRON 2800 G4 HT ist ein reaktives Abscheidewerkzeug für die schnelle und effiziente Herstellung von Hochleistungs-optoelektronischen Komponenten und Geräten. Es handelt sich um eine kompakte, 3-achsige homogene Quer (HT) -Ausrüstung auf Basis einer 4-Zoll oder 8-Zoll-Brückenstruktur mit 32 Tiegeln, 4 Magnetfeldern und 4 Näherungsspulen. Dieses ausgeklügelte Abscheidungssystem bietet eine hervorragende Gleichmäßigkeit und Stabilität über alle Vorläufer und ist somit ein ideales Werkzeug für die Herstellung hochwertiger Proben. Das fortschrittliche Design von AIXTRON 2800G4 HT macht es ideal für die Abscheidung von ultradünnen Schichten. Die Einheit ist in der Lage, sehr geringe Dicken von Dünnschichtschichten während der Abscheidungsprozesse zu erreichen und kann Schichten so dünn wie wenige Dutzend Nanometer (nm) abscheiden. Dieser Dünnfilmabsetzungsprozess ist auch dazu fähig, sich einzeln und Mehrschichtenheterostrukturen mit starken Schicht-zu-Schicht-Schnittstelleneigenschaften zu formen. Die fortschrittlichen computergesteuerten Systeme in 2800 G4 HT sind in der Lage, bis zu 32 Quellen gleichzeitig zu steuern und bieten zudem eine Temperaturrampe von bis zu 1300 ° C bei einer Auflösung von 0.1K. Dies hilft, eine hochpräzise Kontrolle und Genauigkeit über die Abscheideprozesse zu gewährleisten. Die Onboard-Software enthält auch eine Reihe fortgeschrittener Programme, die in der Lage sind, Abscheideprozesse zu simulieren und zu optimieren sowie den Fortschritt zu überwachen und die Konfiguration zu optimieren. Die Konstruktion der Maschine wird durch das im Reaktor enthaltene Magnetfeld weiter verbessert. Dieses selbstjustierende Magnetfeld hilft, jegliche Oberflächenverschmutzung zu verhindern und eine verbesserte Kontrolle über die Partikelverteilung innerhalb der Kammer zu gewährleisten. Die Näherungsspulen reduzieren auch die gesamte Abscheidezeit und maximieren den Substratdurchsatz durch gleichmäßige Erwärmung und Kühlung des Substrats. Insgesamt ist 2800G4 HT ein vielseitiges Widerstandsabscheidungswerkzeug, das hochpräzise optoelektronische Komponenten und Geräte liefern kann. AIXTRON 2800 G4 HT ist ein ideales Werkzeug für effiziente und gleichmäßige Abscheideprozesse, indem es seine fortschrittlichen Designfunktionen, Computersteuerung und hervorragende Schicht-zu-Schicht-Gleichmäßigkeit kombiniert.
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