Gebraucht AIXTRON Crius 31x2" #9199511 zu verkaufen

AIXTRON Crius 31x2 ist ein fortschrittlicher MOCVD-Reaktor (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), der sich besonders gut für die Herstellung optoelektronischer Geräte wie LEDs und Laser eignet. Es handelt sich um eine AIXTRON Massively Parallel Processing Ausrüstung, die sowohl einzelne Wafer- als auch Chargenverarbeitungsvorgänge ermöglicht, mit einer Konfiguration für 300 und 600 mm Wafer. Das Crius 31x2-System bietet eine beeindruckende Palette von Fähigkeiten, einschließlich einer leistungsstarken Elektronen-Zyklotron-Resonanz (ECR) Plasmabildung, sowie eine einzigartige Konfiguration für die Abscheidungsgleichmäßigkeit und epitaktische Qualitätskontrolle. Seine großen Prozesskammern sind so ausgelegt, dass sie bis zu drei Gaseinlässe und einen zusätzlichen entfernten für Gasgemische oder einzelne Gase ermöglichen, um eine saubere und gleichmäßige Umgebung innerhalb der Kammer zu erhalten. Die großflächige Kammer ermöglicht auch ein größeres Gasvolumen und eine bessere Gasströmung. Der Crius 31x2 bietet zwei verschiedene Merkmale zur Optimierung der epitaktischen Abscheidungsqualität: MESA (Macroscopic Edge-Spreading Analysis) und SEMPA (Spatially Extended Molecular Plating Analysis). Die MESA-Einheit liefert eine Echtzeit-In-situ-Analyse zur Bestimmung der Abscheidungsungleichförmigkeit am Waferrand (dem „makroskopischen“ Bereich), während SEMPA dagegen eine Methode zur Überprüfung der Ungleichförmigkeit im kleinräumigen Maßstab bietet. Zusammen tragen die beiden Systeme dazu bei, dass die epitaktische Abscheidung vollkommen gleichmäßig und von höchster Qualität ist. Neben der verbesserten Abscheidungsqualität bietet der Crius 31x2 auch weitere Merkmale, wie eine optimierte Substrattemperaturregelung mit einer Temperaturgleichmäßigkeit von +/- 5 ° C über einen vollen Wafer und einer Spitzentemperatur von bis zu 900 ° C. Es kommt auch mit Remote-Direktzugriff-Steuerung, die robuste und zuverlässige Betrieb von jedem Ort. Insgesamt ist AIXTRON Crius 31x2 eine fortschrittliche MOCVD-Maschine, die sich perfekt für die Herstellung hochwertiger optoelektronischer Geräte eignet. Das beeindruckende Spektrum an Funktionen und Funktionen macht es sowohl für einzelne Wafer- und Batch-Verarbeitungsvorgänge als auch für eine Vielzahl anderer Anwendungen äußerst zuverlässig.