Gebraucht AIXTRON G3 #9187985 zu verkaufen

AIXTRON G3 ist ein Reaktormodell, das von AIXTRON, einem deutschen Unternehmen aus Kiel, entwickelt wurde. Es handelt sich um einen metallischen organischen chemischen Dampfabscheidungsreaktor (MOCVD), der für den Anbau von Galliumarsenid (GaAs) basierenden Materialien für III-V-Verbindungshalbleiteranwendungen verwendet wird. AIXTRON G 3 ist in der Lage, eine hochwertige Epitaxie und Gleichmäßigkeit zu erreichen, die die Herstellung optoelektronischer Komponenten wie Laser, Leuchtdioden (LEDs) und Photodetektoren ermöglicht. G3 ist mit mehreren Sicherheits- und Effizienzmerkmalen konzipiert, die einen zuverlässigen Betrieb gewährleisten. Zunächst verfügt G 3 über eine „Bake-in“ -Ausrüstung zur Kabinen- und Gasströmungsoptimierung, die epitaktische Filmbildungsprobleme verhindert. Zweitens verhindert ein einstufiger VAR-Verschluss die Invasion unerwünschter Ätzarten. Drittens verhindert der Einspritzleistungsgenerator eine übermäßige Erosion leitender Oberflächen und ermöglicht eine optimale Substrattemperatur während des Wachstums. Schließlich kann mit einem Sicherheitsverschluss verhindert werden, dass Verunreinigungen in die Reaktionskammer gelangen. AIXTRON G3 verfügt auch über ein Seiteneingangssystem, das das Risiko von Partikeln in die Wachstumskammer minimiert. Darüber hinaus ermöglicht sein Quarzfenster eine einfache Beobachtung während des Wachstumsprozesses. Funktionen wie automatische Gate-Steuerung, Kammerüberdruckschutz und ein stromlinienförmiger Substratübertragungsroboter sorgen für optimale Prozesse und reduzieren das Risiko von Problemen. AIXTRON G 3 verwendet eine Druckausgleichssteuereinheit, um die Temperatur zu regulieren, wodurch die Wachstumsrate, die Schichtdicke und die Phase streng kontrolliert werden können. Dies hilft, Gleichmäßigkeit und wiederholbares Ebenenwachstum zu gewährleisten. Eine aktive Kühlmaschine hilft, die genaue Temperatur für Epitaxie erforderlich zu halten. Darüber hinaus ermöglicht ein neues Düsendesign ein gleichmäßiges Wachstum und verbessert die Homogenität der Folie. G3 ist für einfache Wartung und zuverlässigen Betrieb über viele Jahre konzipiert. Der robuste modulare Aufbau ermöglicht einen einfachen Austausch jedes Bauteils und minimiert Ausfallzeiten. G 3 ist mit einem Abgaswerkzeug ausgestattet, das eine Gasoxidation und Nachreinigung ermöglicht. Es verfügt außerdem über eine robuste Kontaktkühlung und eine Quarzglasdichtung, um eine sichere und leckagefreie Verbindung mit dem Substrat zu gewährleisten. AIXTRON G3 ist eine effiziente und zuverlässige Reaktorlösung für verschiedene III-V-Verbindungshalbleitermaterialien. Die Kombination aus Sicherheitsmerkmalen, Substratübertragungsroboter, Steuermodell und fortschrittlicher Kühlausrüstung gewährleistet eine enge Prozesssteuerung und einen zuverlässigen Betrieb. Seine gleichmäßig hohe Qualität und seine geringen Defektprodukte machen es für vielfältige, ertragreiche Halbleiterproduktionsanwendungen geeignet.