Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9023531 zu verkaufen

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ID: 9023531
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1995
CVD System, 8" Process: SIH4-Pe Oxide Process chambers: Basic CVD (3) chambers (A, B, C) (3) Chambers hardware Storage elevator: 28 Slots Nitride Main body Cassette indexer, 8" Cassette handler: Clamp type, 8" Load lock: Robot mechanism, 8" (3) Slit doors assy Pumping port assy Process chamber: (2) Susceptors nitride, 8" (3) Lift hoops assy (3) Susceptors lift assy (3) Wafer lift assy (3) Process chambers body, 8" (3) RF Match assy (3) Throttle valves assy dual spring (3) Gate valves assy (3) Lamp modules Gas panel: (3) Gas lines (3) Chambers NH3 200 SCCM N2 100 SCCM C3F8 300 SCCM N2O 800/2500 SCCM N2 5 SLM SIH4 200 SCCM Remote AC / RF Rack MFC: Qty / Make / Model (2) / UNIT / UFC 1660 (12) / UNIT / UFC 8160 (1) / UNIT / UFC 8161 (2) / SAM / SFC 1480 FPD (1) / SAM / SFC 1481 FPD Remote AC rack: (3) RF Coaxial cables Signal cable (3) NPM-1250C RF Matchers Minicontroller HT-200 Heat exchanger Missing parts: Qty / Part number / Description (1) / 0100-09002 / SBC (1) / 0100-09003 / VGA (1) / 0100-11001 / A/O (1) / 0660-01080 / HDD SCSI (1) / 0010-10636 / P-Chuck, 8" (2) / 0010-30406 / Throttle valves (3) / 0020–10123 / Plates perf narrow gap nitride, 8" (3) / 0020–10191 / Plate blockers nitride / TEOS USG, 8" (3) / 0020–10402 / Pumping plates, 8" TEOS / Sil oxide / Narrow gap sil / Nit (3) / 0200–09072 / Shields, 8" (3) / 0200–09075 / Adaptor pump plates, 8" narrow gap nitride / WB (12) / 0200-10074 / Lift pins, 8" (1) / 0010-76005 / Robot blade assy, 8" (3) / 0010-76174 / Isolation valves (1) / 0010-09056 / SBC Intelligent interface BD 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein Ätz- und Abscheidungsreaktor zur Herstellung integrierter Schaltungen. Die P5000 ist eine vertikale Einwafer-Bearbeitungskammer, die in der Lage ist, Filme auf Halbleiterscheiben zu ätzen und abzuscheiden. Das System enthält ein Prozessmodul, das die Abscheidungsquelle hält, einen Übergabearm zur Bewegung der Wafer zwischen den verschiedenen Verarbeitungskomponenten und ein Turbopumpensystem, das ein Vakuum in der Verarbeitungskammer aufrechterhält. AMAT P5000 Mark II bietet Standard-Wafergrößen zwischen 4 und 12 Zoll und Fahrgeschwindigkeiten von bis zu 33 cm pro Sekunde bei der Übertragung von Wafern. ANGEWANDTE MATERIALIEN P 5000 MARK II bietet programmierbare Prozessbedingungen, einschließlich Temperatur, Druck und Leistung, um den Abscheideprozess individuell auf die gewünschten Materialien, Ziele und Gerätestrukturen des Benutzers abzustimmen. ANGEWANDTE MATERIALIEN P5000 Mark II bietet auch erweiterte Einheitlichkeitskontrolle und ECR-Fähigkeiten, die eine präzise Kontrolle der abgeschiedenen Foliendicke und Gleichmäßigkeit ermöglichen. P 5000 MARK II bietet eine Reihe von Abscheidungsquellen und Ätzprozessen, einschließlich chemischer Dampfabscheidung (CVD), physikalischer Dampfabscheidung (PVD) und Ätzen. Der CVD-Prozess kann Filme aus Silizium, Siliziumoxynitrid, Nitrid und anderen Materialien abscheiden. Der PVD-Prozess kann Metallfilme abscheiden, einschließlich Kupfer, Aluminium und Titan. Das Ätzverfahren kann zum Tiefätzen oder zum Ätzen flacher Gräben mit sehr scharfen Ecken verwendet werden, was eine verbesserte Geräteleistung ermöglicht. AMAT P 5000 MARK II enthält erweiterte Kühlfunktionen, einschließlich einer Kühlplatte, die die Temperaturen in der Wafer-Bearbeitungskammer aufrechterhält. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II über einen verbesserten Leistungsdetektor, der höhere Ätzraten und eine feinere Kontrolle des Prozesses ermöglicht. P5000 Mark II bietet eine vielseitige, genaue und stabile Verarbeitung und ist somit eine ideale Wahl für die Produktion integrierter Schaltungen. Mit einer umfassenden Liste von Funktionen ist es ein zuverlässiges System, um einheitliche, wiederholbare Ergebnisse zu erzielen, was es zu einer ausgezeichneten Wahl für die Herstellung von fortschrittlichen Chips und Geräten macht.
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