Gebraucht AJA ATC Orion 5 UHV #9049698 zu verkaufen

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Hersteller
AJA
Modell
ATC Orion 5 UHV
ID: 9049698
Weinlese: 2006
Sputter coater Currently configured for manual operation, fully automatic capable Substrate bias and rotation (3) Independent sputter guns (2) DC Power supplies, 500W RF Power supply, 300W Substrate size: < 5.75" diameter (sputter-up) with z-axis shift (2") Rotation to 20 rpm Heating up to 800ºC with RF bias capability to 50 W RF Sputter guns: (3) 2" O.D. Targets With integrated shutters for RF or DC (metallics/dielectrics) sputtering Confocal, sputter-up arrangement Capable of being upgraded to (5) cathodes Power supplies: (2) ADVANCED ENERGY 500 W DC supplies 1300 W Seren RF generator with manual impedance match and selector switch Substrate heating: PID Temperature programmable controller (2) 1000 W Quartz lamps for heating inside water-cooled reflector box Vacuum generation: PFEIFFER 500 L/sec turbo pump With magnetic bearing on vac side and ceramic bearing on motor side Backed by ADIXEN ACP15 dry rotary lobe pump: Oil-free deposition system Sputtered: metals and metal oxides: Copper Precious metals Nickel Iron Vanadium Molybdenum Aluminum Alumina Carbon / Graphite Currently de-installed and stored in a cleanroom 2006 vintage.
AJA ATC Orion 5 UHV ist eine Sputteranlage, die bei der Verarbeitung von Materialien mit hoher Genauigkeit und Präzision eingesetzt wird. Dieses fortschrittliche System nutzt eine leistungsstarke Hochvakuumeinheit, die einen maximalen Vakuumdruck von 6,5x10-7 Torr aufrechterhalten kann. Es verfügt über eine 5-Ziel-Sputterkammer mit 8 geerdeten beheizten Anoden, die verschiedene Sputterkonfigurationen ermöglicht, einschließlich Hochleistungs- und Niederleistungs-Sputteroperationen. Die Maschine umfasst auch einen modularen Aufbau mit einstellbarem Ziel-Substrat-Abstand und eine automatisierte Hochleistungs-Plasmareinigung. Zusätzlich zu den Sputterfortschritten verfügt das UHV-Werkzeug ATC Orion 5 über eine Temperaturregelung für Substrate. Diese Anlage unterstützt einen aktiven Heizbereich bis 500 ° C und ermöglicht eine präzise Temperaturregelung der Substratoberfläche. Dieses Merkmal bietet eine größere Kontrolle über die Filmmorphologie und Zusammensetzung, da die Wärmebehandlung die Eigenschaften metallisierter Komponenten drastisch beeinflussen kann. AJA ATC Orion 5 UHV bietet präzise Bewegungssteuerung, um eine genaue Beschichtungsabscheidung zu ermöglichen, ohne die Zieloberfläche zu kontaminieren. Die Bewegungssteuerung ermöglicht eine flexible Programmierung mit linearen und schraubenförmigen Scanmustern, um eine gleichmäßige Filmabscheidungsrate zu gewährleisten. Es verfügt auch über ein Oszillations-Scan-Modell, das das Ziel genau abtastet, indem es das Ziel in der X-Y-Ebene oszilliert, um die Effekte der Ziel-Interdiffusion zu reduzieren. Schließlich verfügt ATC Orion 5 UHV über eine fortschrittliche Automatisierungsausrüstung, um Genauigkeit und Wiederholbarkeit innerhalb der Sputterprozessparameter sicherzustellen. Dieses System umfasst eine computergesteuerte Bedienung, eine Mehrprogrammsequenzierung und benutzerfreundliche grafische Programmierwerkzeuge für eine einfache Bedienung. Es verfolgt auch Sputterparameter und Parameter, um Wiederholbarkeit und Reproduzierbarkeit der Beschichtungsergebnisse zu gewährleisten. Insgesamt ist AJA ATC Orion 5 UHV eine leistungsstarke und hochpräzise Sputtereinheit, ideal für die Durchführung von Dünnschichtabscheidungsprozessen. Sein aktiver Heizbereich und die präzise Bewegungssteuerung bieten eine größere Kontrolle über die Materialabscheidung. Seine automatisierten Funktionen maximieren die Effizienz und reduzieren den Zeitaufwand für die Verarbeitung von Materialien. Mit diesen Eigenschaften ist ATC Orion 5 UHV die perfekte Lösung für viele Dünnschichtanwendungen.
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