Gebraucht ANATECH / TECHNICS HUMMER 8.1 #9055839 zu verkaufen

ANATECH Hummer 8.1 ist eine einzigartige Sputteranlage zum Aufbringen dünner Materialschichten auf Substrate. Das zweistufige Design und die Reihe von Funktionen ermöglichen eine präzise Filmabscheidung und eine hohe Prozesskontrolle. TECHNICS Hummer 8.1 verfügt über eine erste Sputterkammer, eine Hochvakuum-Prozesskammer und zwei Niedervakuumsysteme. Die erste Stufenkammer enthält eine W-Typ SHS-Quelle zur Sputterbeschichtung. Diese Kammer ist mit einem Zielbewegungssystem für den In-situ-Zielaustausch und einer Vielzahl von Sputtersteuerungsmöglichkeiten ausgestattet. Die Hochvakuum-Prozesskammer enthält eine Turbo-Molekularpumpe zur Druckstabilität sowie eine Kryo-Ionen-Ätzeinheit und eine Turbo-Molekular-gepumpte Quad-Plasma-Maschine. Sowohl die Hochvakuumkammer als auch die Erststufensputterkammer sind in der Lage, unter verschiedenen Leistungseinstellungen zu arbeiten. ANATECH/TECHNICS Hummer 8.1 bietet Benutzern die Möglichkeit, eine Vielzahl von Sputterprozessen durchzuführen. Die Einheit ist in der Lage, verschiedene Sputtertechniken, wie HF, DC und Pulssputtern. Darüber hinaus verfügt das Werkzeug auch über eine Reihe von Ätzprozessen wie Bögen, Magnetron und PVD. Das Asset ermöglicht es Benutzern auch, ihre Sputterprozesseinstellungen auf ihre genauen Anforderungen zu konfigurieren. Darüber hinaus bietet ANATECH Hummer 8.1 ein breites Spektrum an In-situ-Diagnostik und Prozessüberwachung. Das Diagnosemodell umfasst eine Vielzahl von Sensoren und Controllern, mit denen Benutzer ihre Prozessparameter in Echtzeit überwachen und steuern können. Der Hummer 8.1 bietet Anwendern auch eine Reihe von Software-Überwachungs- und Steuerungssystemen. Die Software ermöglicht es Benutzern, den aktuellen Status des Prozesses zu überwachen, frühere Prozessergebnisse zu untersuchen und Muster und Programme für ihre Sputterprozesse zu erstellen. Insgesamt ist TECHNICS Hummer 8.1 eine ideale Sputterausrüstung und bietet Anwendern die Möglichkeit, dünne Materialschichten präzise auf Substraten abzuscheiden. Das Leistungsspektrum und die Präzisionskontrolle ermöglichen ein hohes Maß an Prozesskontrolle. Dieses System ist in der Lage, eine Vielzahl von Sputtertechniken sowie eine Reihe von In-situ-Diagnosen und Prozessüberwachung durchzuführen, was es zu einem der fortschrittlichsten verfügbaren Sputtersysteme macht.