Gebraucht ANATECH / TECHNICS RF-2C #9100809 zu verkaufen

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ANATECH / TECHNICS RF-2C
Verkauft
ID: 9100809
Wafergröße: 4"
Sputtering system, 4".
ANATECH/TECHNICS RF-2C ist ein Sputtersystem für den industriellen Einsatz bei der Herstellung von Dünnschichtkomponenten. Es bietet eine genaue Kontrolle der Abscheidungsparameter, einschließlich Materialtyp, Dicke, prozentuale Zusammensetzung, Textur und Oberflächenmorphologie. Seine patentierten Dual-Frequenz-Netzteile verwenden Hochfrequenz (HF) -Leistungskomponenten, um eine höhere Präzision als von herkömmlichen Sputtersystemen angeboten wird. Dadurch wird sichergestellt, dass die Schichteigenschaften von Bauteilen enge Fertigungstoleranzen erfüllen und für fortschrittliche industrielle Anwendungen geeignet sind. ANATECH RF-2C verfügt über eine vollautomatische, mikroprozessorgesteuerte Sputterkammer für den Betrieb im Vakuum. Der einzigartige doppelt geschlitzte Verschluss schützt das Substrat vor potentiellem Partikelbeschuss und ermöglicht eine separate Kontrolle der Abscheiderate und Gleichmäßigkeit für jede Materialabscheidung. TECHNICS RF-2C umfasst auch einen hochauflösenden, automatisierten Massendurchflussregler, um eine bessere Prozessstabilität zu ermöglichen. RF-2C verfügt über zahlreiche Sicherheitsmerkmale wie ein Notabschaltsystem, ein Überdruckventil und eine Echtzeitüberwachung der Sicherheitsparameter. Seine Steuerung ist so konzipiert, dass sie dem Betrieb in explosionsgefährdeter Atmosphäre standhält und entsprechend den Anforderungen der Klasse 1 zertifiziert ist. ANATECH/TECHNICS RF-2C ist auf Benutzerfreundlichkeit und maximale Flexibilität ausgelegt. Seine Benutzeroberfläche besteht aus einem vollfarbigen Touchscreen-Panel zur einfachen Überwachung und Steuerung. Die Controller-Software ist vollständig anpassbar, sodass Benutzer Prozessrezepte erstellen und Produktionsdaten für den zukünftigen Abruf speichern können. ANATECH RF-2C bietet auch Fernbedienung über Ethernet-Verbindung und direkte E-Mail-Alarme. TECHNICS RF-2C ist in der Lage, Materialien wie Aluminium, Chrom, Silizium, Titan und Nickel zu beschichten. Es kann verwendet werden, um Kristalle aus einer Vielzahl von Quellen zu verdampfen und hat auch die Fähigkeit von Sputter-Ätzmaterialien. RF-2C wurde entworfen, um eine effiziente, genaue und zuverlässige Art der Herstellung von Komponenten und Produkten mit einem ultrafeinen Finish zu bieten.
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