Gebraucht ASML 300 #9047521 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9047521
DUV Stepper, 6"
Lens under N2 purge
Front end
Options:
SECS
REFL Image sensor
Arms
Pep 1 / Pep 2: Productivity upgrade
Reticle error compensation
Flatness model
LSQ Disto model
Mark sensor
Batch streaming
(2) Intensities
Focus monitoring
Aerial
IRIS
Flexible signal tower
Extended NA range
Focal adjustment
Extended exposure
TIS
Athena
Fast TTL alignment
Automated DOE exchanger
Phase modulator FTTL
Phase modulator OA
Alignment reports
Annular illumination
Athena allow high orders
Scribelane marks
(3) Library configurations
Visual alignment camera
1998 vintage.
ASML 300 ist ein Wafer-Stepper, der bei der Herstellung von Halbleiterprodukten verwendet wird. Es ist ein Photolithographie-Tool, das eine präzise Steuerung der Muster ermöglicht, die verwendet werden, um Transistoren und andere Komponenten auf dem Chip zu erzeugen. 300 ist ein zweistufiger Säulenscanner, was bedeutet, dass sich der Wafer während der Belichtung in der x- und y-Achse bewegt. Die Stufe wird von einem Hochgeschwindigkeits-Gleichstrommotor angetrieben, der die Stufen mit Nanometer-Genauigkeit und Wiederholbarkeit steuern kann. Der Scanner enthält auch mehrere optische Elemente, wie Optik, Linsen und einen Strahlteiler, mit denen das Licht zur Projektion auf den Wafer geformt und geformt wird. Das Gerät ist hochintegriert und flexibel und ermöglicht die Manipulation und Steuerung von Licht und Substrat. ASML 300 ist ein schnell fortschrittliches System mit der neuesten Expositionstechnologie. Es enthält fortschrittliche Funktionen wie einen Bewegungscontroller, einen Motorantrieb, Impulsgeneratoren für Mikrosekunden und eine intelligente Vision-Einheit, die Belichtungen mit selbstkalibrierender Technologie analysiert. Die Maschine verwendet auch eine Vielzahl von Detektoren, um die Genauigkeit zu gewährleisten, einschließlich eines Linienkantenerkennungswerkzeugs, eines Mikroskops für die Flächeninspektion und eines In-Line-Sichtprüfgerätes für die detaillierte Oberflächenbewertung. 300 hat den Industriestandard für Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Bereich der Photolithographie gesetzt. Mit seinem zweistufigen Abtastmechanismus, der Nanometergenauigkeit und dem automatisierten selbstkalibrierenden Modell ist dieser Wafer-Stepper eine zuverlässige und effiziente Möglichkeit, Hochleistungstransistoren und andere Komponenten für neueste Mikrochips zu produzieren. Es ist die perfekte Wahl für moderne Halbleiterherstellung.
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