Gebraucht ASML PAS 2500 / 40 #9198547 zu verkaufen

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ASML PAS 2500 / 40
Verkauft
Hersteller
ASML
Modell
PAS 2500 / 40
ID: 9198547
Wafergröße: 5"
Steppers, 5".
ASML PAS 2500/40 ist eine fortschrittliche Lithographie-Ausrüstung, die in Halbleiterherstellungsprozessen verwendet wird. Basierend auf der tiefen ultravioletten optischen Lithographie ist das System für den 130-nm-Chip-Herstellungsprozess konzipiert und eignet sich somit ideal für leistungsschwache integrierte Schaltungen. Die Einheit verwendet einen einzigen großflächigen Scanner, um eine Photo-Resist (PR) -Schicht auf dem Wafer zu belichten und in einem einzigen Schritt Mikrostrukturen zu erzeugen. Zu den Abbildungsoptiken des Schrittes gehören eine Ausrichtmaschine, eine High-Numerical Aperture (NA) -Linse, ein hochempfindliches Beleuchtungswerkzeug und eine doppelseitige Abbildungslinse. Diese Kombination ermöglicht eine präzise Kontrolle der Bildplatzierung und Gleichmäßigkeit. Darüber hinaus verfügt das Asset über ein einzigartiges Overlay Recognition Model (ORS), das eine hohe Ausrichtungsgenauigkeit ohne manuelles Zuschneiden oder Scannen ermöglicht. Im Kern nutzt ASML PAS 2500/40 eine Drei-Achsen-Stufe, um sich in Sub-Nanometer-Schritten zu bewegen, was eine höchste Präzision bei der lithographischen Ausrichtung ermöglicht. Diese hochmoderne Technologie kombiniert drei lineare Motorstufen - X, Y und Theta (winkelförmig) -, um die genaue Ausrichtung des Wafers zu steuern, was zu genau ausgerichteten Werkzeugmustern führt. PAS 2500/40 verfügt zudem über eine integrierte Atmospheric Control (AC) -Ausrüstung, die eine präzise und saubere Umgebung in der Schrittkammer aufrechterhält. Diese kontrollierte Umgebung trägt dazu bei, die Bildgebungsleistung zu verbessern, die Lebensdauer zu verlängern und die Gleichmäßigkeit und den Durchsatz von Geräten zu erhöhen. Das System bietet auch präzise optische Overlay-, Closed-Loop-Ausrichtungs- und Prozesssteuerungsfunktionen sowie eine überlegene Feldgleichförmigkeit. PAS 2500/40 ist eine fortschrittliche, benutzerfreundliche Lithographieeinheit, die für den Einsatz in der 130-nm-Chip-Herstellung entwickelt wurde. Die Maschine bietet überlegene Bildgebungsleistung, präzise optische Overlay-Funktionen, verlängerte Lebensdauer und hochpräzise Bewegungssteuerung. Mit fortschrittlichen Technologien wie einem High-NA-Objektiv, einem hochempfindlichen Beleuchtungswerkzeug und einer atmosphärischen Steuerung bietet ASML PAS 2500/40 beispiellose Präzision und Genauigkeit.
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