Gebraucht ASML PAS 5500 / 100D #9202871 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ASML PAS 5500 / 100D
Verkauft
Hersteller
ASML
Modell
PAS 5500 / 100D
ID: 9202871
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2000
Stepper, 8" 2000 vintage.
ASML PAS 5500/ 100D ist ein automatisierter optischer Wafer-Stepper. Dieses Gerät wurde entwickelt, um einen Siliziumwafer exakt und präzise ultraviolettem Licht auszusetzen. ASML PAS 5500/100D verwendet einen hochauflösenden Bildgeber, fortschrittliche Optomechanik und Elektronik mit Linearmotoren, um eine genaue und zuverlässige Strukturgestaltung zu gewährleisten. Dieses Gerät ist ein Präzisionswerkzeug mit einer breiten Palette von optischen und mechanischen Einstellungen, die einen hohen Durchsatz und wiederholbare Qualität ermöglichen. PAS 5500/100 D ist in der Lage, über ein großes Sichtfeld zu belichten, was es perfekt für großflächige Wafer macht. Es verfügt über eine fortschrittliche Lithographietechnologie, die eine hohe Auflösung und präzise Ausrichtung bietet. Dadurch wird sichergestellt, dass die Mikrostrukturen exakt geformt und ausgerichtet werden. Das Gerät verfügt auch über eine Präzisionsbewegungssteuerung mit digitalen Servomotoren, um eine dynamische und wiederholbare Ausrichtung zu erreichen. Es ist mit einer hochpräzisen Optik gekoppelt. Dieses System ist mit Laserinterferometern und Bilderkennung gebaut, um eine präzise Strukturierung und Ausrichtung zu gewährleisten. Schließlich verfügt PAS 5500/100D über eine Reihe fortschrittlicher optischer Sicherheits- und Umweltschutzmerkmale. ASML PAS 5500/100 D ist ein äußerst zuverlässiges und präzises Werkzeug zur Belichtung von Photomasken im Lithographieverfahren. Seine Genauigkeit, Wiederholbarkeit und hoher Durchsatz ermöglichen die Herstellung von Strukturen mit Submikrongröße für fortgeschrittene Halbleiterbauelemente. Es verfügt über hochpräzise Optomechanik, fortschrittliche Lithographietechnologie und hochpräzise Bewegungssteuerung, um Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu gewährleisten. Diese Eigenschaften ermöglichen es PAS 5500/ 100D, präzise Mikrostrukturen zu erzeugen und Defekte und Prozessvariationen zu minimieren. Es verfügt auch über erweiterte optische Sicherheits- und Umweltschutzfunktionen, um eine sichere Arbeitsumgebung zu gewährleisten. ASML PAS 5500/ 100D hat sich als wesentliches Werkzeug im photolithographischen Prozess der Halbleiterbauelementproduktion bewährt.
Es liegen noch keine Bewertungen vor