Gebraucht NIKON NSR 2005 i8A #9138101 zu verkaufen

NIKON NSR 2005 i8A ist eine ultraviolette Lithographieanlage zur hochauflösenden Herstellung von Photomasken und Halbleiterchips. Mit einem Großfeld-Flachfeld, 8-Zoll-abwechselnd gestufte Reduktionsobjektiv, NIKON NSR 2005I8A ist entworfen, um die Herstellung von Sub-100nm Muster zu unterstützen. Mit einer einstellbaren Öffnung von bis zu 32 Mikrometern und einem Autofokus-System zur Feinausrichtung ist NSR-2005I8A in der Lage, feinste lithographische Prozesse mit hoher Präzision zu realisieren. NIKON NSR-2005 I8A Wafer Stepper kann hochvolumige Lithographieverfahren beschleunigen und bietet eine maximale Schreibgeschwindigkeit von bis zu 4 Metern/Sekunde. Die Schritteinheit unterstützt dünne Resistbeschichtungen von bis zu 400nm, was eine Vielzahl von sonst schwer zu erreichenden Sub-100nm-Prozessen ermöglicht. Darüber hinaus verfügt die Maschine über eine Mehrfeld- und Mehrachsen-Ausrichtmaschine, die eine aufwendige Maskenausrichtung überflüssig macht. Das Schrittwerkzeug wird durch eine proprietäre hochgenaue V-förmige Stufe mit einem mechanischen Encoder ergänzt, der die Bewegung der Bühne genau messen kann. Automatisierte Phasenabtastfunktionen ermöglichen die Ausrichtung mehrerer Felder durch Verwendung von in der Maschine vor jedem Schrittvorgang gespeicherten Parametern. Der Wafer-Stepper ist außerdem mit einem hochauflösenden Z-Positionierer ausgestattet, der mit einer optischen Heizung gekrönt ist und eine präzise Regelung der Wafertemperatur ermöglicht. Gebaut mit einem Großfeld-Flachfeld, Öl-Immersion Objektiv, ist NSR-2005 I8A besonders für großflächige Resiststoffe geeignet, um die engen Genauigkeitsanforderungen von Halbleiterprozessen zu erfüllen. Das Öl-Immersion-Design macht die Maschine auch gegen Vibrationsprobleme immun und kann auch in mehrschichtigen Resistlithographieverfahren eingesetzt werden. NIKON NSR-2005I8A Wafer Stepper bietet auch eine Vielzahl innovativer Technologien. Es unterstützt Anti-Reflexionsbeschichtungen, erweiterte Reticle-Management-Funktionen, vollautomatisierte Operationen und eine hohe Prozessintegration für eine effiziente Produktion. Es wird auch durch eine Reihe von spezialisierten optischen Optionen unterstützt, einschließlich einer Reihe von Brennweiten und partiellen Kohärenzvariationen, so dass Benutzer Best-of-Breed-Lithographie-Prozesse mit konsistenten und wiederholbaren Ergebnissen erstellen können.