Gebraucht ULTRATECH 1100 #130601 zu verkaufen

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ULTRATECH 1100
Verkauft
Hersteller
ULTRATECH
Modell
1100
ID: 130601
Wafergröße: 3"-6"
Weinlese: 1987
Stepper, 3" - 6" Broadband "G" + "H" line system Resolution: 1.0 microns Alignment: WAS key and target Automation or intelligent autoloader Air probe edge switches HP 362 computer with hard disk 1987 vintage.
ULTRATECH 1100 ist ein hochmoderner Wafer-Stepper von Mapper Lithography. Diese automatisierte photolithographische Maschine ist in der Lage, Präzisionsmuster auf Halbleitersubstraten mit Merkmalsgrößen von 0,5 μ m bis zu einigen Nanometern genau zu ätzen. Mit der Technologie, die auf Meta „Ultrafast“ Flüssigkeitstauchlithographie basiert, ist 1100 in der Lage, solches Detail zu erreichen, indem es Licht durch eine eingetauchte Projektionslinse projiziert. Diese Linse ist in der Lage, einen gleichmäßig fokussierten Strahl über ein weites Sichtfeld zu projizieren. Das Scansystem in ULTRATECH 1100 ist so konzipiert, dass es einem kartesischen Weg folgt und Geschwindigkeiten von bis zu 2000mm/s mit einer wiederholbaren Genauigkeit von ± 3 μ m erreichen kann. Die Abtastmaschine weist zusätzlich eine dynamische Aspektkorrektur auf, die eine exakte Darstellung des projizierten Musters unabhängig von der Substratgröße gewährleistet. 1100 ist mit einer großen rekonfigurierbaren Maskenplatte ausgestattet und bietet zwei Abbildungsmodi: einen Photomaskenmodus und einen digitalen Mustergeneratormodus. Der Photomasken-Modus ermöglicht es dem Benutzer, ein Photomasken-Layout auf die Maschine hochzuladen und die Bildgebung wird genau diesem Design folgen. Im digitalen Modus erfolgt die Bildgebung im Handumdrehen, so dass komplexe Geometrien im Handumdrehen erstellt werden können. ULTRATECH 1100 unterstützt zusätzlich eine breite Palette von Beschichtungs- und Ätzmaterialien, um eine genaue Strukturierung einer Vielzahl von Substraten zu ermöglichen. Speziell unterstützt es Photoresists wie SU-8, Polyimid und BCB sowie trockene Ätzmaterialien wie Silizium Wolfram, SiO2 und Si3N4. 1100 verfügt über eine 10MP CMOS-Kamera für hochauflösende Bildgebung, mit der Benutzer die Prozessergebnisse in Echtzeit überprüfen können. Mit der Kamera können auch Inline-OCR- und Defektprüfungen durchgeführt werden. Insgesamt ist ULTRATECH 1100 ein idealer Schrittmacher für die Halbleiterforschung und hohe Produktion, aufgrund seiner präzisen bildgebenden Fähigkeiten, der rekonfigurierbaren Maskenplatte, der breiten Palette an Beschichtungs- und Ätzmaterialien, der schnellen Abtastung und der dynamischen Aspektkorrektur.
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