Gebraucht SDI SPV 1010 #138847 zu verkaufen

SDI SPV 1010
ID: 138847
Contamination monitoring station Photo voltage tester.
SDI SPV 1010 ist eine Wafer-Prüf- und Messtechnik-Ausrüstung, die entwickelt wurde, um Submikron-Messungen von Wafern zu erzielen. Unter Verwendung der optischen Interferometrie-Technologie kann die Maschine hohe Genauigkeit, Wiederholbarkeit und Auflösung bei der Verarbeitung und Herstellung von Halbleitern bieten. Das System besteht aus einer Probenstufe, einer Beleuchtungsquelle und einer Kamera/optischen Einheit. Die Probenstufe ist in der Lage, Wafer bis 200 mm Durchmesser zu handhaben. Die Beleuchtungsquelle ist in der Lage, Hintergrundbeleuchtung, Oberlicht und Seitenlichtbeleuchtung mit dem Zweck der Herstellung von Ebenheit, Nut oder Platzprüfung zur Verfügung zu stellen. Die Kamera/optische Maschine enthält eine CCD-Kamera, Objektiv und DMD-Spiegel. SPV 1010 erleichtert auch die Analyse der Oberflächenrauhigkeit und -querschnittsqualität von Wafern. Durch den Einsatz der Direct-in-Plane-Technik (DIPT) können nanometrologische Messungen für Oberflächenrauhigkeit, Oberflächenformfehler und andere Effekte auf der Oberfläche von Wafern genau gemessen werden. Die fortschrittliche Speckle-basierte Interferometrie (SPI) -Technologie wird auch für die Oberflächenmessungen des Werkzeugs verwendet. SDI SPV 1010 kombiniert Bildverarbeitungsalgorithmen, einschließlich globaler und lokaler Funktionen (GLF und LCL), um die am besten geeigneten Parameter bei der Messung einer Probe zu ermitteln. Dadurch ist eine hohe Genauigkeit und Zuverlässigkeit der Messungen gewährleistet. Die Hardware des SPV 1010 ist in eine Software integriert, die den Betrieb der Maschine steuert. Eine intuitive grafische Benutzeroberfläche ermöglicht eine einfache Bedienung durch den Benutzer und alle Funktionen können ohne Vorkenntnisse des Assets aufgerufen werden. Die Software ist auch in der Lage, statistische Daten zur Analyse zu sammeln und anzuzeigen. Insgesamt ist SDI SPV 1010 ein zuverlässiges und zuverlässiges Werkzeug für Wafertests und Messtechnik, das zum Scannen großer Wafer, über genähte Oberfläche und Bildausrichtung von optischen Bildern verwendet werden kann. Das Modell hat eine breite Palette von Anwendungen in der Halbleiterqualitätssicherung und -inspektion sowie in der Optoelektronik auf Waferebene und in der mikroelektronischen Industrie.
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