Gebraucht DNS / DAINIPPON SU-3100 #9129361 zu verkaufen

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ID: 9129361
Weinlese: 2012
Wet station, 2012 vintage.
DNS/DAINIPPON SU-3100 Wet Station ist eine fortschrittliche DMA-Station für Hochleistungs-Nanotechnologie Forschung und elektronische Gerätedesign verwendet. Die Station ist mit einer mehrschichtigen Lithographieausrüstung und einer Reihe fortschrittlicher Verfahren wie Atomschichtabscheidung, Reaktivionenätzen, chemischer Dampfabscheidung, plasmaverstärkter chemischer Dampfabscheidung und Sputtern ausgestattet. Es ist in der Lage, Metalle, Polymere und Dielektrika mit hoher Präzision und Auflösung zu strukturieren. Die Station nutzt ein Laser Direct Imaging (LDI) System zur präzisen Maskenausrichtung. Das Gerät verwendet einen Präzisions-Mikrofokusdiodenlaser mit einer Leistung von 6 W und einer Intensität von bis zu 50 mW/cm2, um eine Maske zu projizieren, die genau auf das gewünschte Muster ausgerichtet werden kann. Der XY-Motor ermöglicht eine hohe Genauigkeit und Präzisionsausrichtung. Die LDI-Maschine kann Auflösungen bis 250 Nanometer erreichen und bietet Platz für eine Reihe von Maskengrößen bis 600 x 600 mm. Die Nassstation nutzt auch ein mehrschichtiges Lithographieverfahren zur Herstellung integrierter Schaltungen. Sein Rasterelektronenstrahl realisiert die Strukturierung von Nanometermerkmalen auf der Oberfläche eines Substrats mit Präzision und Auflösung. Dazu wird zunächst eine Resistmaske auf das Substrat aufgebracht und dann die Maske lasergetreu auf das Substrat abgebildet. Das Werkzeug verwendet dann eine Kombination entweder reaktiver Ionenätzverfahren oder chemischer Dampfabscheidungsmethoden, um das Muster von der Maske auf das Substrat zu übertragen. Die Station enthält auch mehrere Schadstoffentfernungssysteme, die die Reinheit der Prozessumgebung aufrechterhalten können. Vor der Verarbeitung wird ein müheloser Flüssigkeitskreislauf-Desmear und Minifluidkühler eingesetzt, um die Eintrittsgefahr von Partikeln zu verringern. Die Station verfügt über ein eingebautes Gut zur Filtration und Rückführung des in den Nassprozessen verwendeten Fluids sowie über ein Ozonentfernungsmodell und eine Kryorückführungsanlage mit einem 0,2 µm-Filter. Diese Systeme helfen Verschmutzungen des bearbeiteten Substrats zu verhindern und erhöhen die Zuverlässigkeit und Lebensdauer des Geräts. DNS SU-3100 Wet Station ist eine fortschrittliche Station für Nanofabrikation und Gerätedesign. Es bietet eine anspruchsvolle Plattform für Forschung und Entwicklung aufgrund seiner hohen Präzision und Auflösung, Kontaminationsentfernungssysteme und Multi-Layer-Lithographie-Optionen.
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