Gebraucht SVG 86 #9214254 zu verkaufen

SVG 86 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die für den Einsatz in digitalen Photolithographieanwendungen entwickelt wurde. Es handelt sich um eine hocheffiziente negative Photolacklösung auf Basis einer mehrschichtigen empfindlichen Folie, die in Kombination mit einer Photomaske zur Erzeugung von Mustern auf Siliziumscheiben für die Halbleiterherstellung verwendet wird. 86 Photoresist-System besteht aus drei verschiedenen Komponenten: einer bebilderbaren Resistschicht, einer bebilderbaren Haftschicht und einer harten Backschicht. Die abbildbare Resistschicht besteht aus einer Polyimidacrylatfolie, die für unterschiedliche Wellenlängen von UV-Licht empfindlich ist. Sie enthält eine photoaktive Verbindung, die empfindlich auf die Wellenlänge des Lichts ist, dem sie ausgesetzt ist, wodurch sie in Abhängigkeit von dem in der Photomaske erzeugten Muster selektiv aushärten oder abräumen kann. Die zweite Komponente der Einheit, die abbildbare Haftschicht, ist eine dünne Metallschicht, die die Resistschicht mit der Oberfläche des Si-Wafers verbindet und eine korrekte Ausrichtung der in der Photolithographie verwendeten Muster gewährleistet. Die dritte Komponente der Maschine, die Hartbackschicht, wird nach den Belichtungs- und Verarbeitungsschritten der Photolithographie zur Verstärkung der abbildbaren Resistschicht verwendet. Diese Ebene ist auch wichtig, um das während der Verarbeitung erzeugte Muster zu erhalten. Insgesamt ist das Photoresist-Tool SVG 86 eine effiziente und zuverlässige Lösung zur Erstellung von Mustern in digitalen Photolithographieanwendungen. Es bietet ein hohes Maß an Empfindlichkeit, Genauigkeit und Bilddefinition und kann für eine Vielzahl von verschiedenen photolithographischen Anwendungen verwendet werden. Mit seinen robusten Komponenten und seinem Design kann es für eine schnelle, effiziente Musterung eingesetzt werden und die Anforderungen der aktuellen Photolithographie-Technologie verstehen.