Gebraucht KOKUSAI DD-803V #9057581 zu verkaufen

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KOKUSAI DD-803V
Verkauft
ID: 9057581
Furnaces LP Nitride.
KOKUSAI DD-803V ist ein hochentwickelter Diffusionsofen und Zubehör speziell für Wafer-Dotierung und Kontaktverarbeitung. Es bietet eine gleichmäßige Erwärmung bis 1150 ° C und verfügt über eine breite Palette von Fähigkeiten, die es zu einem sehr wünschenswerten Produkt machen. Der Ofen verfügt über eine einzonige Niederdruckdiffusionsanlage mit einer heißen Zone von 20.5L Größe und einem quarzbeschichteten Innenraum. Es hat einen Gerätetemperaturbereich von ~ Ambient bis 1150 ° C und eine Temperaturgleichförmigkeit von +/-10 ° C. Seine gleichmäßige Erwärmung macht es für verschiedene Anwendungen, wie Wafer-Dotierung und Kontaktverarbeitung geeignet. Darüber hinaus verfügt der Ofen auch über einen zusätzlichen CVD-Reaktor, der effizient mit dem diffusionsbasierten Verfahren arbeitet. Dies geschieht zur Verbesserung der thermischen Gleichmäßigkeit und Beschleunigung der Reaktionsgeschwindigkeit. Es bietet auch eine höhere Produktivität und Effizienz im Umgang mit dem Prozess. Der Reaktor ist mit Quarz für ausgezeichnete Wärmebeständigkeit ausgekleidet und ist einfach zu installieren und zu montieren. Der Ofen verfügt auch über eine breite Palette von Zubehör, die eine Steuerung, ein automatisches Wafer-Ladesystem und eine Förder- und Wafer-Vorwärmeinheit umfassen. Der Controller verfügt über eine Echtzeit-Maschinenparameter-Anzeige, die es dem Benutzer ermöglicht, schnell zu handeln, wenn ein Parameter abweicht und sicherstellt, dass Wafer genau verarbeitet werden. Das automatische Wafer-Ladewerkzeug ist ein eingebautes Gerät, das rohe Wafer handhabt und sauber hält. Die Förder- und Wafer-Vorwärmeinrichtung wurde entwickelt, um die Effizienz zu erhöhen und eine bessere Kontrolle über den Prozess zu gewährleisten. Abschließend ist KOKUSAI DD-803-V ein fortschrittlicher und zuverlässiger Diffusionsofen. Mit seinem breiten Leistungsspektrum, der präzisen Erwärmung bis 1150 ° C und dem effizienten Zubehör ist er für eine Vielzahl von Anwendungen geeignet. Die zusätzlichen Komponenten wie CVD-Reaktor, Regler und automatische Wafer-Ladesysteme machen es zu einer großen Wahl in Bezug auf Preis, Leistung und Zuverlässigkeit.
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