Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805 #191404 zu verkaufen

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TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 805
Verkauft
ID: 191404
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1996
PAD / Liner / ISO diffusion furnace, 8" 1996 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 805 ist ein Diffusionsofen, der für die Halbleiterverarbeitung verwendet wird. Dieser hochwertige Laborofen ist in der Lage, verschiedene Prozesse wie schnelles thermisches Glühen (RTA), Transistorherstellung und Hochtemperaturdiffusion durchzuführen. Der Ofen ist auch in der Lage, bis zu 210kw (KiloWatt) Heizspitzenleistung zu liefern. Dieser Ofen hat einen gesamten Edelstahlinnenraum, der aus einer 8 "runden Heißzone besteht. Diese ist mit einem Graphitisolator gekoppelt, um eine homogene Temperaturverteilung für gleichmäßige Verarbeitungsergebnisse zu gewährleisten. Darüber hinaus kann der Ofen Temperaturen bis zu 1250 ° C für eine schnelle thermische Verarbeitung und bis zu 950 ° C für die Diffusionsbearbeitung erreichen. TEL Alpha 805 bietet zudem eine präzise Temperaturregelung mit einer Stabilität von +/-0,2 ° C. Die Stromversorgung des Ofens erfolgt über einen 480V/ 3Phase/60Hz Wechselstromanschluss. Aufgrund des hohen Leistungsbedarfs für den Ofen ist er mit einem 3-phasigen, variablen Frequenzantrieb (VFD) ausgestattet, der eine präzise und zuverlässige Steuerung für eine stabile Verarbeitung bietet. Der Ofen kann auch im eigenständigen oder rechnergesteuerten Betrieb betrieben werden. Eine intuitive, mehrsprachige Touchscreen-Oberfläche sorgt für zusätzlichen Komfort und Benutzerfreundlichkeit des Systems. TOKYO ELECTRON Alpha 805 bietet darüber hinaus hervorragende Sicherheitsmerkmale, darunter einen thermischen Grenzschalter und einen Sauerstoffmonitor sowie ein 30-stufiges Hochdruckvakuumsystem mit 20 mbar bis 0,5 Pascal Vacuum. Darüber hinaus ermöglicht ein integriertes, vollständig einziehbares Kassettenlast-Verriegelungssystem einen einfachen Zugriff und Probenbelastung. Für zuverlässige und effiziente Verarbeitungsergebnisse auf Waferebene ist Alpha 805 eine großartige Option. Seine intuitiven Bedienelemente, präzise Temperaturregelung, hohe Genauigkeit und Sicherheitsfunktionen machen ihn zu einem idealen Diffusionsofen für jedes moderne Halbleiterlabor.
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