Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE #122707 zu verkaufen

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ID: 122707
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2007
Thermal process furnace, 8" Flat type wafer Signal tower: (4) color I/O type Rapid cooling unit Capacity: (125) wafers per batch Controller Waves V3.23 R001 (D01FFF-000F) (2) HDD: 4.3 GB TEB 408 HDMC Rev 2.0B SVA 041 TEB 107 ECS5 DVE P750/51-TR TEB 103 FPIF Temperature controller: 560A Pressure controller: CKD VEC-CP2 WVG controller: WVG-SC-010Y1B2B Vacuum pump: Ebara A150W-T 2007 vintage.
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE ist eine fortschrittliche thermische und chemische Verarbeitungsausrüstung, die in einer Vielzahl von Industrien für eine Vielzahl von Materialien verwendet wird. Es ist eines der modernsten, modernsten Systeme zur Verarbeitung von dünnen Folien mit höchster Präzision, Genauigkeit und Zuverlässigkeit. TEL ALPHA-8SE ist ein Diffusionsofen, der eine gleichmäßige Verarbeitung mehrerer Substrate im Batchverfahren auf Waferebene ermöglicht. Dieses System besteht auch aus mehreren anderen Komponenten, die eine Reihe von Optionen für eine extrem flexible und genaue Dünnschichtabscheidung und Plasmaätzen bieten. TOKYO ELECTRON ALPHA-8 SE Diffusionsofen wird mit einer Halbleiter-Prozesskammer geliefert, die mit einem Infrarot-Sensor (IRS) ausgestattet ist, der die Temperaturänderungen in der Kammer erfassen kann. Dies wird mit einer Reihe von verschiedenen Zubehörteilen gepaart, wie einer S-FOC Automated Film Removal Unit, einer hocheffizienten Partikelabscheidungsmaschine und einer HF-Platte. Darüber hinaus verfügt dieses Tool auch über zusätzliche Rezepte, die für einfachere Programmierung und wiederholbare Prozesse gespeichert werden können. Die hocheffiziente, niedertemperaturabscheidende Anlage ermöglicht eine schnellere, gleichmäßige Dünnschichtabscheidung. Die HF-Platte ermöglicht eine glatte, gleichmäßige Verarbeitung von großflächigen Substraten. TEL ALPHA 8 SE Diffusionsofen verwendet dynamische Gaseinlasssteuerung, die hilft, die Gleichmäßigkeit in der Kammer zu verbessern und die Verarbeitungszeit zu reduzieren. Die fortschrittliche Steuerungstechnologie gewährleistet eine gleichbleibende Verarbeitung unabhängig von Wafertyp und Substratgröße. Dieses Modell bietet auch hervorragenden Durchsatz für die Batch-Verarbeitung auf Waferebene und unterstützt bis zu 8 Wafer und ist somit perfekt für den industriellen Einsatz geeignet. Neben dem Diffusionsofen umfasst ALPHA 8 S E eine Vielzahl von Zubehörteilen, wie zwei ferngesteuerte lüfterbetriebene Sockelroboter, ein programmierbares Quarzrohrabscheidemodul, ein Plasmaätzmodul sowie eine Vielzahl weiterer Werkzeuge und Geräte. Die beiden ferngesteuerten lüftergesteuerten Sockelroboter erleichtern das Laden von Wafern und bieten eine unübertroffene Übertragungssicherheit und Prozesswiederholbarkeit. Das programmierbare Quarzrohrmodul ermöglicht eine gleichmäßige Abscheidung komplexer Materialien und Freiformprofile. Schließlich hilft das Plasmaätzmodul, unerwünschte Materialien zu entfernen und die Prozessqualität und Gleichmäßigkeit zu verbessern. TEL ALPHA-8 SE Diffusionsofen und sein dazugehöriges Zubehör bieten eine extrem flexible und präzise Dünnschichtabscheidung und Plasmaätzanlagen, die einer Vielzahl von Branchen helfen können, effizientere Prozesse und qualitativ hochwertigere Produkte zu gewinnen. Dieses System ist äußerst zuverlässig und bietet eine hochpräzise Verarbeitung mit höchster Genauigkeit. Die Zuverlässigkeit, Flexibilität und Genauigkeit, die TOKYO ELECTRON ALPHA 8 SE bietet, machen es zu einem der besten Systeme für die thermische und chemische Verarbeitung.
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