Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i #9095367 zu verkaufen

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TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 303i
Verkauft
ID: 9095367
Wafergröße: 12"
Vertical oxide furnaces, 12".
TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 303i ist ein Diffusionsofen und Zubehör, das hauptsächlich in der Halbleiterindustrie zur Behandlung von Wafern und anderen Materialien mit einem Diffusionsprozess verwendet wird. TEL ALPHA-303I ist eine kompakte Ausrüstung, die eine schnelle thermische Verarbeitung (RTP) bei hohen Temperaturen und verschiedenen Waferdurchmessern durchführt. Es ist ein effizientes und hochproduktives System, das bis zu vier verschiedene Prozesse gleichzeitig ausführen kann. Die verschiedenen Prozesse, die auf TOKYO ELECTRON ALPHA-303 I laufen können, sind wie folgt: Oxidation, Glühen, schnelle thermische Verarbeitung und Diffusion. TEL ALPHA 303 I ist mit einem Steuergerät, bekannt als Fuzzy Logic Control Unit, ausgestattet, das es erlaubt, präzise und schnell auf verschiedene Prozessparameter zu reagieren. Das Gerät ermöglicht es dem Bediener, die Temperaturprofile, die Versorgungsspannung und den Ofenkammerdruck einfach einzustellen und zu steuern. Zusätzlich kann die Steuereinrichtung im Fehlerfall den Bediener alarmieren. ALPHA-303I verfügt über eine große Prozesskammer, die bis zu vierundzwanzig 4 „- oder sechzehn 6“ -Wafer aufnehmen kann. Die Kammerwände sind aus Graphit und die Kammer ist weiter durch einen Aluminiumoxid-plattierten Schild geschützt, der zur Verbesserung der Wärmedämmung beiträgt. Der Ofen ist auch mit einer Roboter-Shuttle-Maschine ausgestattet, die Wafer von der Ladestation in den Reaktor und umgekehrt übertragen kann. Im Betrieb wird der Ofenraum auf eine maximale Temperatur von 1500 ° C erwärmt und hat eine Temperaturgleichförmigkeit von weniger als ± 10 ° C. Der Kammerdruck wird ständig überwacht und kann mit einer Genauigkeit von 3-7Torr bis maximal 0.1Torr variiert werden. Der Diffusionsofen ist ferner mit einem Temperaturprofil-Probenahmewerkzeug ausgestattet, das den Temperaturbereich des Ofens durch Erfassung des Temperaturprofils bis zu zwanzigmal pro Sekunde begrenzt. ALPHA 303 I ist für eine sichere, effiziente, genaue und produktive Waferbearbeitung konzipiert. Es ist mit einem Abgasanschluss ausgestattet und kann an eine geeignete Entlüftungsanlage zur effektiven Emissionsminderung angeschlossen werden. Das Modell verfügt auch über Sicherheitsfunktionen im geschlossenen Kreislauf, die den Ofen und seine Abgasanlagen aktiv überwachen, um eine kontinuierliche Sicherheit und Leistung zu gewährleisten. Insgesamt ist TOKYO ELECTRON Alpha 303i ein effizienter und produktiver Diffusionsofen, ideal für Halbleiterverarbeitungsanwendungen. Es ist in der Lage, schnell hohe Temperaturen mit Gleichmäßigkeit und Genauigkeit zu erreichen und ist mit einer Vielzahl von Sicherheitsmerkmalen ausgestattet, um einen ordnungsgemäßen Betrieb und Emissionskontrolle zu gewährleisten.
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