Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON Alpha 8SE A8SE-ZAR #115117 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON Alpha 8SE A8SE-ZAR ist ein Diffusionsofen und Zubehör für mehrere Wafer-Prozessanwendungen. Es wird verwendet, um dünne Schichten auf mehreren Substraten abzuscheiden. Das A8SE-ZAR wurde entwickelt, um den Durchsatz zu maximieren, eine ausgezeichnete Gleichmäßigkeit zu gewährleisten und eine hochpräzise Kontrolle der Filmdicke und Abscheideraten zu ermöglichen. Die A8SE-ZAR basiert auf einer computerintegrierten Multiwafer-Plattform mit einheitlichen Heizmechanismen. Es ist auch mit einem Mehrkammer-Automatisierungssystem ausgestattet, das es ermöglicht, mehrere Prozessschritte in einem einzigen Prozesszyklus zu unterstützen. Es ist in der Lage, Prozesse wie Oxidabscheidung, Diffusion, Oxidation, Nitridation, Metallabscheidung, Interdiffusion, Ätzen und Strukturierung. Das A8SE-ZAR ist mit einer fortschrittlichen CCD-Kamera konzipiert, die eine automatische Ausrichtung zwischen Wafern und eine höhere Genauigkeit bietet. Es enthält auch ein Fenster CF-Filter, das das Auftreten von Partikelverunreinigungen reduziert. Dieses Filter verhindert außerdem, dass Partikel in die Diffusionskammer gelangen. Dies trägt zu einer verbesserten Prozesswiederholbarkeit über längere Laufzeiten bei. Die A8SE-ZAR verfügt über Prozesssteuerungsfunktionen in ihrem System. Dazu gehören die Temperaturregelung in der gesamten Kammer sowie Oxidations- und Nitridationsparameter. Es hat auch einen proprietären Diffusionsrezeptgenerierungsalgorithmus, der Prozessunsicherheiten minimiert und einheitlichere Ergebnisse liefert. Das A8SE-ZAR verfügt auch über eine integrierte Endura Offline-Steuerungsfunktion, die die Kontrolle über mehrere Rezepte ermöglicht, ohne den Prozess zu stören. Es ist auch mit einem fortschrittlichen HF-Generator ausgestattet, der Kanteneffektverluste reduziert, was zu Gleichmäßigkeit und verbesserten Prozessausbeuten führt. TEL Alpha 8SE A8SE-ZAR ist ein zuverlässiger Diffusionsofen und Zubehör, mit dem Kunden kostengünstig qualitativ hochwertige Ergebnisse erzielen können. Es kombiniert hochpräzise Steuerungs- und Automatisierungssysteme, die kontrollierte und wiederholbare Prozesse mit Gleichmäßigkeit und Prozessgenauigkeit ermöglichen. Es enthält außerdem Steuerungsmerkmale wie die CCD-Kamera, Filter und HF-Generator, die alle zu einer höheren Prozesswiederholbarkeit und -ausbeute beitragen. Diese fortschrittliche und integrierte Waferbearbeitungsplattform ist gut für die Anforderungen der modernen Halbleiterindustrie geeignet.