Gebraucht TEL / TOKYO ELECTRON VDF-615S #176607 zu verkaufen

TEL/TOKYO ELECTRON VDF 615S ist ein Diffusionsofen und Zubehör, das für den Einsatz bei der Herstellung hochzuverlässiger integrierter Schaltungsbauelemente konzipiert ist. Diese hochmoderne Ausrüstung ist in der Lage, schnelle thermische Oxidation und Verarbeitung mit Effizienz durchzuführen. Der Ofen bietet eine ausgezeichnete thermische Gleichmäßigkeit, minimale Temperaturgradienten und eine sehr schnelle Reaktion auf Temperaturänderungen. TEL VDF 615S ist eine fortschrittliche vertikale Thermobearbeitungskammer, die fünf verschiedene stationäre Heizungen sowie ein optionales abnehmbares Deckelsystem aufweist. Die Heizgeräte verwenden als Heizquelle ein induktiv gekoppeltes Plasma (ICP), wodurch eine zuverlässige und genaue Temperaturregelung realisiert werden kann. Da die ICP-Kammer außerdem für gerichtete Strahlung ausgelegt ist, kann die Temperatur des Wafers während der Oxidation der Polysiliziumschicht genau gesteuert werden, was bei hohen Temperaturen des Wafers auftritt. Der Ofen ist mit einer ultradünnen, hochgleichmäßigen Wärmedämmung ausgeführt, die eine gleichmäßige Temperaturverteilung über den gesamten Wafer ermöglicht. Dadurch ergibt sich ein hocheffizienter thermischer Diffusionsprozess und sogar eine Erwärmung des gesamten Wafers, die je nach gewünschtem Ergebnis eingestellt werden kann. Das Ergebnis ist eine sehr homogene Temperatur über den Wafer, die minimale Temperaturgradienten und eine insgesamt hohe Zuverlässigkeit gewährleistet. Weitere Merkmale von TOKYO ELECTRON VDF 615S sind ein Festkörper-Controller, ein berührungsempfindliches visuelles Display, eine doppelschichtige Edelstahlkonstruktion, die den Stromverbrauch minimiert, ein wassergekühlter Schacht und ein Überwachungs- und Steuerungssystem. Die Luftzufuhr wurde auch auf die neue SS-C-V-1 umgerüstet, die eine schnelle Reaktion auf Temperaturänderungen liefert und gefährlich-gasfrei zertifiziert ist. VDF 615S ist seit Anfang der 1990er Jahre Teil der TEL-Diffusionsofenlinie und wurde als Industriestandard für die Herstellung zuverlässiger ICs weit verbreitet. Es wurde entwickelt, um alle Anforderungen an die Temperaturgleichmäßigkeit zu übertreffen und Temperaturgradienten während der Verarbeitung zu minimieren. Mit seiner fortschrittlichen Technologie bietet es zuverlässige, schnelle und effiziente Leistung für die IC-Produktion.