Gebraucht THERMCO 4100 #9046507 zu verkaufen

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ID: 9046507
Wafergröße: 6"
Furnace system, 6" 4-Stack Can be converted to 3-stack, 8" Can be configured to atmospheric or LPCVD.
THERMCO 4100 ist eine Diffusionsofen- und Zubehörausrüstung für Glühanwendungen in der Halbleiterindustrie. Es ist ein hocheffizientes und zuverlässiges Glühsystem, das eine patentierte Diffusionsatmosphäre und eine präzise thermische Kontrolle nutzt, um hervorragende Ergebnisse zu erzielen. 4100 ist eine Atmosphärenkontrollglüheinheit, die sowohl dotierte als auch undotierte Wafer bis zu einer Größe von 150 mm im Durchmesser verarbeiten kann. Diese Maschine ist ideal für die effiziente Verarbeitung von Silizium-Wafern in den unterschiedlichsten Temperaturbereichen von 400 ° C bis 900 ° C. Es verfügt über ein Vollbereich-Prozessfenster, einschließlich schnelles thermisches Glühen, Ionenimplantationsglühen, Deckendiffusionsglühen, auftreffendes Plasmaglühen und Hochvakuumglühen. THERMCO 4100 verfügt über ein automatisiertes Atmosphärensteuerungswerkzeug, das die Kammerumgebung kontinuierlich überwacht und eine präzise Steuerung der Atmosphäre ermöglicht. Diese atmosphärische Regelung gewährleistet die entsprechende Zusammensetzung, Reinheit und den Druck innerhalb der Glühkammer. Diese schnelle, aber präzise Temperaturregelung ist für kontrollierte und wiederholbare Glühergebnisse unerlässlich. 4100 verfügt auch über eine „Load-Lock“ -Kammer, die ein effizientes Be- und Entladen von Wafern ermöglicht, ohne die Glühkammer entlüften oder öffnen zu müssen. Dadurch wird verhindert, dass Verunreinigungen in die Kammer gelangen, wodurch die Integrität der Prozessergebnisse gewährleistet ist. THERMCO 4100 beinhaltet auch eine hochgenaue und zuverlässige Temperatur- und Druckkontrolle. Dazu gehören ein PID-Temperaturregler zur engen Temperaturregelung und ein Druckregler zur genauen Endpunktdruckbeaufschlagung. Es verfügt auch über einen integrierten Quarzmonitor, um Echtzeit-Wafertemperaturmessungen bereitzustellen und eine optimale thermische Leistung zu gewährleisten. Insgesamt ist 4100 aufgrund seiner präzisen thermischen Steuerung und effizienten Waferbearbeitung ein ideales Glühmodell für die Halbleiterindustrie. Der modulare Aufbau ermöglicht eine einfache Integration mit allen anderen kompatiblen Prozesswerkzeugen. Es bietet eine überlegene Temperaturregelung, Prozessgleichmäßigkeit und Wiederholbarkeit aufgrund seiner benutzerfreundlichen Programmiersteuerung. Die automatisierte Atmosphärensteuerung und Load-Lock-Ausrüstung sorgen für eine saubere und konsistente Verarbeitungsumgebung. THERMCO 4100 ist die ideale Lösung, um anexakte und wiederholbare Glühergebnisse zu erzielen.
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