Gebraucht CANON PLA 501 #293621683 zu verkaufen

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Hersteller
CANON
Modell
PLA 501
ID: 293621683
Mask aligners.
CANON PLA 501 ist ein hochentwickelter Maskenausrichter, der in der Halbleiterherstellung verwendet wird. Es wurde in der Halbleiterindustrie zur hochpräzisen Ausrichtung der Photolithographiemaske auf einen Wafer umfassend eingesetzt. Das Gerät eignet sich für die Herstellung von ICs, die einen präzisen Schablonendruck, eine Feinlinienlithographie und eine hochauflösende Strukturierung erfordern. CANON PLA-501 ermöglicht eine qualitativ hochwertige Herstellung von Halbleiterbauelementen mit hoher Präzision und Wiederholbarkeit. Es wurde entwickelt, um eine optimale Genauigkeit und Zuverlässigkeit bei der Ausrichtung von lithographischen Masken und Dünnschichtkomponenten zu gewährleisten. Das System verfügt über eine automatische Ausrichtungstechnologie, die eine präzise und wiederholbare Ausrichtung von photolithographischen Maskenplatten und Wafern ermöglicht. Das Gerät ist mit einem InGaAs-Monitor ausgestattet, der die Kanten der Maskenplatten mit einer Auflösung von maximal 107 nm erkennt. Dieser Sensor kann die Kanten von Photolackmustern auch in den kompliziertesten Ausführungen erkennen. Darüber hinaus ist die Maschine auf eine hohe Auflösung ausgelegt, wobei die maximale Ausrichtgenauigkeit 5 nm beträgt. Das Werkzeug enthält auch einen Z-Stufenmechanismus, der dafür sorgt, dass die Dünnfilmschichten der Maskenplatte und des ausrichtenden Wafers perfekt parallel ausgerichtet sind, was für einen genaueren Ausrichtvorgang sorgt. PLA 501 ist auch in der Lage, ultrahochauflösende Strukturen zu strukturieren. Es ist mit einem Schrittmotor ausgestattet, der für eine kontinuierliche Emission von Laserlicht sorgt, wodurch auf den Maskenplatten feine Strukturen gebildet und strukturiert werden können. Dieses Asset ist mit einer Vielzahl von Maskentypen kompatibel und kann bis zu 150 Maskenplatten verarbeiten. Darüber hinaus ermöglicht das Modell die Erstellung von bis zu 200.000 Ausrichtungsmustern, was einen effizienten und zuverlässigen Prozess ermöglicht. Insgesamt ist PLA-501 in der Halbleiterherstellung weit verbreitet und bietet einen zuverlässigen und effizienten Prozess. Der Masken-Aligner ist hochentwickelt und bietet eine präzise und wiederholbare Ausrichtung von Photolithographie-Maskenplatten und Wafern. Dieses Gerät ist auch in der Lage, ultrahochauflösende Strukturen zu strukturieren, die Halbleiterbauelementen Flexibilität und Genauigkeit bieten.
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