Gebraucht EVG / EV GROUP 620 #9165257 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

Hersteller
EVG / EV GROUP
Modell
620
ID: 9165257
Weinlese: 2008
Mask aligner, 4" BSA Lamphouse: 500W Automatic filter exchanger Conversion kit: 6" 2008 vintage.
EVG/EV GROUP 620 Maske Aligner ist ein leistungsstarkes Werkzeug zur Herstellung von hochpräzisen Masken für die kritische Halbleiterherstellung. EVG 620 verwendet 5-Achsen-Präzisionsstufen, fortschrittliche Linearmotoren und eine hybride Luft/Wasser-Kühlausrüstung, um eine zuverlässige, genaue Ausrichtung und Verarbeitung von Substraten mit einem Durchmesser von bis zu 300 mm zu ermöglichen. Das integrierte IC-System EV GROUP 620 sorgt für hochpräzise, kostengünstige und wiederholbare Lithographieergebnisse. Es ermöglicht eine flexible Platzierung und zählt mit einem 10mm Z-Wobble für eine perfekte Ausrichtung jeder IC-Matrize. Darüber hinaus sorgt seine Bewegungssteuereinheit für eine hervorragende Mittelumlenkleistung für eine schnelle, präzise Ausrichtung von Wafern und Substraten mit einer Genauigkeit von 10 Mikron. Die beiden hochauflösenden Kameras mit Zoomoptik und internen Filtern dienen der hochpräzisen Waferausrichtungsverifizierung. Die Kamera hat einen 12x oder 8x Gesamtzoom, mit einer minimalen Merkmalsgrößenerkennung von 30 Mikron für ungemusterte und gemusterte Substrate. 620 verfügt über eine programmierbare menügesteuerte Waferausrichtmaschine, die eine einfache Einrichtung und Programmierung aller Betriebsparameter ermöglicht. Es gibt auch eine automatische Kalibrierung, die eine einfache Nachverfolgung von Maßänderungen vom Substrat während des Maskenausrichtvorgangs ermöglicht. Das Tool unterstützt sowohl die positive als auch die negative Bildausrichtung und bietet eine schnelle automatische Fokussierung. Das einstellbare Beleuchtungsmodul mit gleichmäßigem Lichtfeld eliminiert dunkle/helle Flecken und sorgt für einen minimalen 0,05 ° Neigungsfehler für die einfachste und effektivste Ausrichtung. EVG/EV GROUP 620 Maske Aligner ist ein wesentliches Werkzeug für Halbleiterherstellungsprozesse, die hohe Präzision und Wiederholbarkeit erfordern. Seine leistungsstarke Bewegungssteuerung, fortschrittliche Bildgebungstechnologien und programmierbare Ausrichtungsparameter sorgen für eine unübertroffene Genauigkeit bei der Verarbeitung großer Substrate.
Es liegen noch keine Bewertungen vor