Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS SemVision G2 #9160447 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9160447
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2002
Defect review system, 12"
Tool model: DRSEM G2
Loading configuration: TDK TAS300 Loadport
BROOKS Robot
Beam source: SE-Gun tip
Resolution: 4nm (1 keV at tilt 0°)
Column vacuum: < 5.0E-10 torr
Throughput: 11 Wafer/hr
SEM Accelerating voltage: 600 V - 15 kV
Magnification: 500x - 200000x
Multi perspective SEM imaging
Gun life time: >1 year
Optical microscope: 2.5x / 20x / 100x
Tilt: 0°, 15°, 45°
Image format: TIFF
Function:
Optical microscope
Automatic defect review
Automatic defect classification
Column tilt 45°
SDD
EDX Standard type
Component:
Main unit
Operator console
EPDU
UPS
FFU
Isolation block
EDX Compressor
System power rating: 208 VAC, 3-Phase
2002 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 ist ein hochmodernes Masken- und Wafer-Inspektionssystem, das eine umfassende Palette von kritischen internationalen Standardtests für den Bereich Fehleranalyse, Ausbeute und Prozessoptimierung, Photomasken-Reparatur und Maskenregistrierung und -ausrichtung durchführt. Das Produkt verfügt über ein leistungsstarkes Hochfrequenz-Elektronenstrahl (E-Beam) -Werkzeug, das zur schnellen und genauen Beurteilung von Maskenmerkmalen verwendet wird. Es verfügt auch über ein AFR-Modul (Automated Feature Recognition), das zur automatischen Erkennung von Mustern und Fehlern im vom Elektronenstrahl erzeugten Bild verwendet wird. AMAT SemVision G2 bietet eine zweidimensionale Abbildung von hochauflösenden Wafern und Masken und bietet eine direkte Integration von Bildgebung und E-Beam. Dieses Hochleistungssystem ermöglicht mehrstufige vertikale und laterale Scan-Kontrollen und bietet Feinabstimmungsalgorithmen zur Überwachung kritischer Maskenparameter. Es ist in die Logix 5000-Plattform von Allen-Bradley integriert, die prozessorientierte Programmierung unterstützt und eine einfache Integration in eine Produktionsumgebung ermöglicht. ANGEWANDTE MATERIALIEN SemVision G2 verfügt über mehrere Maskenoptimierungstools: Image Match, das verwendet wird, um ähnliche Muster im Maskenbild zu identifizieren; Automatische Ausrichtung und Vergleich, die für die Registrierung und Ausrichtung von Masken verwendet werden; und verschiedene Leadframe Enhancement Algorithmen, die speziell entwickelt wurden, um Oberflächen- und Struktureigenschaften zu verbessern. Das Produkt enthält auch eine fortschrittliche E-Beam Compositing-Software, die eine verbesserte Leistung und bessere Genauigkeit ermöglicht. SemVision G2 bietet eine einzigartige schichtbewusste Kalibrierungsfunktion, die bei der Optimierung der Bühnenbewegung hilft. Das Produkt bietet auch eine automatische lokale Pixelanpassung, die manuelle Anpassungen reduziert und mögliche Fehler beseitigt. Es ermöglicht eine intelligente Fehlererkennung und unterstützt die neuesten Fehlerklassifizierungen. AMAT/APPLIED MATERIALS SemVision G2 bietet eine effiziente Waferinspektion und bietet umfassende messtechnische Möglichkeiten. Es ist kompatibel mit verschiedenen Prozessdefekten, einschließlich chemisch-mechanische Planarisierung (CMP) Defekte, isolierte Partikel, Sub-Mikron-Partikel und chemisch-mechanische Polieren (CMP) Prozess Gleichmäßigkeit. Das Produkt kann Dielektrika, einschließlich Si, sowie TaN, Ta2O5 und HfO2 Schichten handhaben. AMAT SemVision G2 bietet eine Vielzahl von Werkzeugen, die den Anforderungen jeder High-End-Wafer-Inspektion gerecht werden. Das Produkt ist ideal für jede Umgebung, die schnelle, genaue und leistungsstarke Ergebnisse erfordert. Es bietet umfassende Unterstützung für den MISRA-C + + -Codierungsstandard und kann entsprechend den Sicherheitsstandards der Branche konfiguriert werden.
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