Gebraucht CARL ZEISS AIMS 248 / MSM 100 #9275806 zu verkaufen

CARL ZEISS AIMS 248/MSM 100 ist eine Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die eine hochpräzise automatisierte Mikroskop-Abbildung von Masken- und Waferoberflächen ermöglicht. Das System ist in der Lage, Bilder von Masken und Wafern mit hoher Genauigkeit zu erfassen und bietet erweiterte Bildverarbeitungsfunktionen wie Adaptive Scanning Technology (AST) und Area-of-Interest (AOI), um wiederholbare und zuverlässige Bildqualität zu gewährleisten. AIMS 248/MSM 100 arbeitet mit einem Array von optischen Komponenten, die ein großes Sichtfeld, niedrige Lichtpegelverhältnisse, eine telezentrische Linse und eine 100-fache Objektivlinse umfassen. Dies bietet die erforderliche Auflösung für eine schnelle, effiziente und zuverlässige Abbildung von Halbleiteroberflächen. Darüber hinaus ist das Gerät mit einer Reihe von Funktionen ausgestattet, um weitere Präzision zu gewährleisten, einschließlich Farbcodierer, Bildnähte, Pixelmustererkennung und automatisierte beschnittene und gefilterte Betrachtung. Dies ermöglicht beispiellose Bildklarheit und Genauigkeit für anspruchsvolle Anwendungen wie Prozesssteuerung und Fehlerbehebung. CARL ZEISS AIMS 248/MSM 100 verfügt über eine integrierte Wafer-Mapping-Funktion, die eine effiziente Auswahl von Inspektionsbereichen sowie die Ermittlung fehlerhafter Bereiche in Maske oder Wafer ermöglicht. Darüber hinaus bietet seine hochpräzise Autofokus-Mikroskop-Erfassungsmaschine eine automatisierte Erfassung sowohl hochauflösender digitaler Bilder als auch von frontbeleuchteten Kontaktbildern der Masken- oder Waferoberfläche. Darüber hinaus können seine Algorithmen nahezu jeden Musterfehler erkennen, von einfachen Defekten bis hin zu komplexen Mustern oder Strukturen mit Präzision. Dies macht es ideal für die Inspektion von hochkomplexen Designs. Darüber hinaus ist das Werkzeug für die Arbeit mit anderen gängigen bildgebenden Werkzeugen wie Röntgen, FTIR, SEM, UV, plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung (PECVD) und Atomkraftmikroskopie (AFM) konzipiert. Auf diese Weise können die aus jeder Technologie gewonnenen Daten für eine umfassendere Ansicht der Masken-/Waferoberfläche verglichen werden. Schließlich ist die Anlage vollautomatisiert und bietet einen automatisierten Betrieb während der Inspektion, Messung und Analyse. Dies beseitigt jegliches Potenzial für menschliche Fehler und ermöglicht eine schnelle Validierung und Analyse von Masken und Wafern. Zusammenfassend ist AIMS 248/MSM 100 ein fortschrittliches Masken- und Wafer-Inspektionsmodell, das eine hochpräzise Abbildung von Masken- und Waferoberflächen ermöglicht. Das Gerät verfügt über eine Reihe von Funktionen, um Präzision zu gewährleisten, einschließlich Farbcodierer, Pixelmustererkennung, automatisierte beschnittene und gefilterte Anzeige und eine integrierte Wafer-Mapping-Funktion. Darüber hinaus hat es die Fähigkeit, mit anderen bildgebenden Technologien zu arbeiten, so dass Benutzer einen umfassenderen Blick auf die betreffende Oberfläche erhalten. Schließlich sorgt sein automatisierter Betrieb für konsistente und zuverlässige Ergebnisse und beseitigt gleichzeitig das Potenzial für menschliche Fehler.