Gebraucht DCG SYSTEMS / CREDENCE EmiScope III #9117179 zu verkaufen

DCG SYSTEMS/CREDENCE EmiScope III ist eine fortschrittliche Halbleitermaske und Wafer Defekt Inspektion Ausrüstung. Das System wurde entwickelt, um Fehler in Photomasken zu entdecken, die in Halbleiterherstellungsprozessen und auf Silizium-Waferoberflächen verwendet werden. Es verwendet innovative Technologie, um hochauflösende Inspektionen bei schnellen Scanraten für die komplexesten Halbleitermaskendesigns durchzuführen. CREDENCE EmiScope III-Einheit nutzt die neueste Entwicklung in Linsentechnologien und optischen Abbildungssystemen, um eine ausgezeichnete Bildklarheit und Genauigkeit bei der Masken- und Wafer-Fehlererkennung zu erreichen. Es verfügt über eine leistungsstarke digitale Zeilenkamera mit einem ultra-großen Sichtfeld, um eine detaillierte Breitbereichsabdeckung für die Erkennung von Masken mit hoher Auflösung und Wafer-Defekten bereitzustellen. Die Maschine verfügt außerdem über eine 5 Grad flexible Neigungsplattform, einen hohen Zoombereich und eine Servomotorsteuerung für Mikroinspektionsanwendungen. DCG SYSTEMS EmiScope III entfällt die manuelle Inspektion durch automatische Fehlererkennung in kurzer Zeit. Dieses Tool ist mit den fortschrittlichen Fehlererkennungsalgorithmen der KLA ausgestattet und bietet eine schnelle und genaue Klassifizierung von Maskenmustern, Teststrukturen und Oberflächenmontagekomponenten. Es generiert Ergebnisse in Form umfassender zusammenfassender Berichte, mit denen Benutzer Fehler leicht erkennen und messen können. Darüber hinaus ermöglicht die interaktive Software-Suite von EmiScope III Asset Benutzern, Inspektionsparameter schnell zu ändern und Fehlerergebnisse in Echtzeit anzuzeigen. Es erleichtert die Ausrichtung und Fokussierung Operationen, um maximale Bildqualität zu gewährleisten. Das Modell bietet auch eine automatisierte Blendensteuerung, um unerwünschte Belichtung und elektromagnetische Störungen (EMI) Empfindlichkeit zu reduzieren. DCG SYSTEMS/CREDENCE EmiScope III wurde entwickelt, um hervorragende Leistung und Genauigkeit bei der Inspektion von Masken- und Waferfehlern zu bieten. Dieses Gerät bietet schnelle Fehlererkennung in einer Vielzahl von Halbleitermasken-Designs und auf komplexen Silizium-Waferoberflächen. Seine fortschrittliche optische Bildgebungstechnologie und Fehlererkennungsalgorithmen machen es zu einer idealen Wahl für Prozessverbesserung und Qualitätssicherung.