Gebraucht KLA / TENCOR Archer AIM #151422 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 151422
Wafergröße: 12"
Weinlese: 2006
Overlay inspection system, 12"
Front end only
(2) ASYST 300mm IsoPort load-ports:
PN: 9700-9129-01 rev J
SW ver: 5206-2702-0800
Brooks PRE-300B-U-I-CE-S2 pre-aligner:
KLA PN: 0029191-000
Brooks robot handler:
3-axis, single arm, single blade / end-effecter
Mini-environment with HEPA filter
CE marked
2006 vintage.
KLA/TENCOR Archer AIM ist eine automatisierte Masken- und Wafer-Inspektionsanlage, die über eine Vielzahl von Funktionen verfügt, die speziell entwickelt wurden, um sicherzustellen, dass die Qualität und Spezifikation eines Wafers erhalten bleibt. Es ist in der Lage sicherzustellen, dass keine kritischen Fehler vorhanden sind, die die Qualität des Wafers in irgendeiner Weise gefährden können. KLA Archer AIM verwendet fortschrittliche Optik, hochwertige visuelle Inspektionstechniken und überlegene messtechnische Fähigkeiten, um sicherzustellen, dass alle Fehler genau identifiziert, quantifiziert und klassifiziert werden. Dies hilft, die Ausbeute an Chips zu verbessern und das Risiko eines Chipausfalls zu verringern. TENCOR Archer AIM verfügt über eine Reihe leistungsstarker Software und Hardware wie MetaSuite™, Image Coach, ProPerf, SuperTronics, BitMap, AIM-Scan und AIMTest. Die MetaSuite ™ beleuchtet Fehler in der Masken- und Wafer-Musterung, während AIM-Scan fortschrittliche Algorithmen verwendet, um sicherzustellen, dass das Muster-Layout vollständig genau ist. Image Coach ist ein 3D-Inspektionswerkzeug, das die Form und Größe von Fehlern misst. BitMap ordnet schnell defekte Shapes und Größen zur Übermittlung an eine Datenbank zu. Das ProPerf ist ein Leistungsmodul, das die Leistung einer Waferoberfläche schnell und genau bewertet. Das SuperTronics-Tool wird in Verbindung mit dem ProPerf verwendet, um sicherzustellen, dass auch die elektrischen Eigenschaften des Wafers korrekt sind. Das AIMTest ist ein halbautomatisches Testsystem, das den Wafer nach Abschluss des Herstellungsprozesses inspiziert. Archer AIM kann auch Fehlerdichteinformationen wie Standort, Größe und Form bereitstellen. Dies hilft, sowohl mikroskopische als auch makroskopische Defekte zu identifizieren, die zu Ertragsverlusten führen könnten. Darüber hinaus verfügt das Gerät über eine umfangreiche Benutzeroberfläche und flexible Anpassungsmöglichkeiten für Visualisierungen, Datenanalysen und Rapid Prototyping. Insgesamt ist KLA/TENCOR Archer AIM ein leistungsstarkes Werkzeug für die Wafer- und Maskeninspektion, da es mit Funktionen ausgestattet ist, die eine hohe Bildauflösung, Fehleranalyse und umfassende Informationen über den Wafer bieten. Darüber hinaus machen die modulare High-End-Software und Hardware sie zu einer hochgradig anpassbaren und zuverlässigen Maschine.
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