Gebraucht LEICA / VISTEC MIS 200 #9254135 zu verkaufen

LEICA/VISTEC MIS 200 ist ein führendes automatisiertes Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Entwickelt von LEICA, bietet es schnelle und zuverlässige Fehlererkennungs- und Klassifizierungsmöglichkeiten mit seinen fortschrittlichen Bildgebungs-, maschinellen Lern- und Mustererkennungstechniken. Es maximiert die Qualitätskontrolle und beschleunigt die Herstellung von Masken und Wafern. LEICA MIS 200 ist in der Lage, Bilder von jeder Schicht der Maske oder Wafer mit seiner dynamischen Beleuchtung, Hellfeld, Dunkelfeld und Schrägwinkel optischen Modi zu erfassen. Aufgrund seiner überlegenen Bildgebungsleistung und einer Vielzahl von Inline-Inspektionstechniken kann es Fehler bis zur Nanometerskala erkennen und klassifizieren. Das System kann 3D-Bilder jeder Ebene auf Masken und Waferoberflächen für eine genauere Erkennung konstruieren. VISTEC MIS 200 verfügt über eine intuitive grafische Benutzeroberfläche (GUI), mit der Bediener schnellere und sachkundigere Entscheidungen hinsichtlich der Qualitätskontrolle treffen können. Die GUI ist mit Touch-basierten Operationen ausgestattet, die Navigations- und Navigationskontrolle bieten und ein einfacheres Experimentieren in komplexen Fehleranalysen ermöglichen. Es verfügt auch über eine integrierte Bildanalyse, Bildkorrektur und Fehlerkarten-Analyse-Software, die Qualitätskontrolloperationen beschleunigen und beschleunigen. Für Messtechnik und Fehlerverfolgung ist MIS 200 mit Mustererkennungsalgorithmen und robusten Fehlererkennungstechnologien integriert. Erweiterte Algorithmen erkennen und klassifizieren Fehler auf jeder Ebene der Maske oder des Wafers genau und erstellen ein umfassendes Fehlerprofil mit Sensor- und Messfunktionen. Dies hilft den Betreibern, weitere Analysen durchzuführen und fundierte Entscheidungen zu treffen. Darüber hinaus bietet LEICA/VISTEC MIS 200 Möglichkeiten zur statistischen Prozesskontrolle (SPC), um den Herstellungsprozess zu überwachen und die Qualität der Produkte zu messen. Dies hilft, Maske und Wafer hergestellt Ausschuss und Verschwendung zu reduzieren. Abschließend ist LEICA MIS 200 ein leistungsstarkes Masken- und Wafer-Inspektionssystem. Es verfügt über zuverlässige Fehlererkennung, Bild- und Fehleranalyse und statistische Prozesssteuerungsfunktionen. Die fortschrittlichen Technologien für Bildgebung, Mustererkennung und maschinelles Lernen ermöglichen es Betreibern, Fehler schnell zu erkennen und zu beheben, die Qualitätskontrolle zu verbessern und Abfälle und Verschwendungen zu reduzieren.