Gebraucht NANOMETRICS NanoSpec M-210 #121797 zu verkaufen

NANOMETRICS NanoSpec M-210 ist eine hochpräzise Masken- und Wafer-Inspektionsanlage zur automatisierten Prozesssteuerung und Bewertung von Halbleiterbauelementen. Das System ist mit einem Lichtfeldmikroskop und einer breiten Palette von Beleuchtungsquellen, Detektoren und Photomultiplier-Röhren ausgestattet. Es kann verwendet werden, um eine breite Palette von bildgebenden Eigenschaften zu messen, einschließlich Waferoberflächentopographie und kritische Abmessungen, Verbindungstiefe, Defekte und Kontamination. Die Einheit besteht aus zwei Stufen: der Mask Stage und der Wafer Stage. Auf der Maskenstufe führt die Maschine eine Dunkelfeldbeleuchtung der Maske durch, um einen Kontrast zwischen Linien und Raum zu erzielen und kritische Abmessungen genau zu messen. Das Werkzeug führt auch Weißlicht-Querschnittsmikroskopie, um Fehler einschließlich Linienbreite Rauheit, Form und Form Details und andere Defekte wie Partikelabscheidung und Wafer Verzug genau zu erkennen. Auf der Wafer Stage führt das Asset eine Hellfeldmikroskopie bei höheren Auflösungen durch, um das Waferprofil zu analysieren und kritische Dimensionen bis in den Nanometerbereich genau zu messen. NanoSpec M-210 verfügt über mehrere Funktionen, um den Betrieb zu erleichtern, einschließlich eines verformbaren Spiegels für fokusgesteuerte hochauflösende Bildgebung, zwei piezogetriebene Stufen für präzise Ausrichtungen und automatische Merkmalserkennung für die automatisierte Klassifizierung von Fehlern. Darüber hinaus bietet das Modell eine breite Palette automatisierter messtechnischer Funktionen wie Profile, Kantenerkennungen und 2D/3D-Visualisierungen. Darüber hinaus bietet das Gerät eine Reihe fortschrittlicher Datenanalysetechniken zur Durchführung von Topographiemessungen, Fehlerdichten und Gleichmäßigkeitsprüfungen sowie zur Identifizierung von Trends und Validierung von Prozessergebnissen. NANOMETRICS NanoSpec M-210 ist eine zuverlässige, robuste und kostengünstige Kombination von optischen und elektronischen Komponenten, die hochpräzise und wiederholbare Ergebnisse in einem kompakten Formfaktor ermöglicht. Es ist ideal für den Einsatz in der Halbleiterindustrie, wo Prozesse kritische und konsistente Analyse der verschiedenen Schichten und Komponenten eines Bauelements erfordern. Das System ist in der Lage, sehr kleine Details mit hoher Präzision und Genauigkeit zu messen, wodurch die manuelle Inspektion entfällt.