Gebraucht VARIAN / VEECO GEN II #9222084 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9222084
Wafergröße: 3"
Molecular beam epitaxy system, 3"
Type:
Cell in: 60cc
Dual filament ga cell: 125cc
Cell cable 2-pol, TC
(2) Cryo motor cables
(4) Water pipes
Pistols:
N2
Cracker (With motor)
(2) Trolleys, WH (5"x 3'' 2x 2'')
(2) End piece manipulators
Buffer chamber extension
Materials used: As, Ga, In, Al, Si, Be
Connector vacuums:
LN2
Cables joint
Shutters tangen
Cage distance pieces
Power cable
Doping cell (Si)
Ga cell sumo
Pyrometer
Control unit
Power cable
Doping cell (Neu)
Si-cell heat filament defect
Head mass spectrometers:
Lead through defective
Al-cell thermocouple defective
(2) Windows (Heated)
Control-PC
Cage
Ratchet
Dual filament cell
400g Sumo cell
Dual filament cell
Dopant cell
Mass spectrometer
Control-PC
Cage distance pieces
(4) He-tubes
Power cable
LN2 Phase separator.
VARIAN/VEECO GEN II Molekularstrahl Epitaxie Ausrüstung ist ein fortschrittliches Werkzeug entwickelt, um die Herstellung von komplizierten Nanostrukturen, wie Quantenpunkte zu ermöglichen. Dieses Abscheidungssystem verwendet einen niederenergetischen Elektronenstrahl, um eine stabile Atomschicht auf dem Zielsubstrat zu erzeugen. Die Strahlenergie wird von einer eingebauten Ionenquelle vorgewählt, die magnetisch abgeschirmt ist, um eine präzise Steuerung und Wiederholbarkeit des Strahls zu gewährleisten. Der erzeugte Strahl kann von einem Bruchteil eines eV bis zu mehreren eV variieren, so dass diese Einheit gut für die Abscheidung einer Reihe von Materialien ist. Die einzigartige Quellmaschine von VEECO GEN II ermöglicht spezielle dynamische Abscheideeffekte wie eine Kombination aus gepulstem und konstantem Strahlfluss, Substratheiz- oder Abklinggeschwindigkeiten oder dynamischen Abscheideraten und Druckschwankungen. Darüber hinaus ermöglicht die Kombination eines Kammermassenspektrometers und einer spektroskopischen Echtzeit-Rückkopplung eine präzise Kontrolle der Materialzusammensetzung der Zielschicht. VARIAN GEN II verfügt auch über eine dreiachsige computergesteuerte Bewegungseinheit, die eine Submikron-Genauigkeit zur Positionierung der Probe relativ zur Abscheidungsquelle bietet. Durch die Steuerung der Probenbewegung und der Abscheiderate können Anwender Strukturen mit scharfen rasierartigen Merkmalen auf der Nanoskala herstellen. Die ausgeklügelte Computerschnittstelle und Software-Automatisierung des Tools bietet Zugriff auf komplexe Produktionsregime. Diese automatisierte Steuerung der Abscheiderate, des Flusses, des Stroms und der Substrattemperatur ermöglicht die Abscheidung einheitlicher Schichten, die Dicken von weniger als einem Nanometer erreichen können. Darüber hinaus enthält GEN II eine breite Palette von Sicherheitsmerkmalen wie ein Gassicherheitsabschaltventil, Drucküberwachung und Vakuumalarme. Dieses Asset ist auch mit einem Vakuum-Interlock-Modell und einem LCD-Panel ausgestattet, das die Echtzeit-Prozessdaten anzeigt. Abschließend ist VARIAN/VEECO GEN II Molecular Beam Epitaxy eine fortschrittliche Abscheidungsausrüstung, die eine präzise Kontrolle über verschiedene Parameter ermöglicht, die bei der Herstellung komplizierter Nanostrukturen verwendet werden. Dieses System bietet eine Reihe von einzigartigen Eigenschaften, die es ermöglichen, extrem präzise Schichten mit submikroskopischer Genauigkeit zu produzieren.
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