Gebraucht DNS / DAINIPPON 80A #9133638 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9133638
Scrubber
Top side spin
(1) Brush scrub
Brush material: Mohair brush or PVA brush
Brush contact distance: +1mm to -5mm max from wafer surface (adjustable at unit of 0.01mm)
Brush revolutions: 440 rpm/60Hz, 380 rpm/50Hz (allowance of revolutions: ±10% max), non-rotation also settable
Brush cleaning function: DI water washing at the brush standby zone by straight nozzle
(1) Nano spray nozzle scrub
Nozzle scanning scrub by high pressure DI water/N2
Nano nozzle angle: Approx 90 deg. to wafer surface
(1) Nano nozzle
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
(1) DI water rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml/min
(1) Back rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 200 ml /min
(1) Brush cleaning
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml /min
Back Side Spin Scrubber Specification:
(1) Brush scrub
Brush: 0.1mm Nylon or PVA brush
Brush contact distance: +1mm to -5mm max from wafer surface(adjustable at unit of 0.01mm)
Brush revolutions: 440 rpm/60Hz, 380 rpm/50Hz (allowance of revolutions: ±10% max), non-rotation also settable
Brush cleaning function: DI water washing at the brush standby zone by straight nozzle
(1) D-sonic nozzle
Nozzle scanning scrub by D-sonic DI water
Nozzle material: PP,PFA,PVDF
Nozzle angle: Approx 90 deg. to wafer surface
(1) D-sonic DI water nozzle
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
(1) DI water rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml/min
(1) Back rinse
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 500 ml /min
(1) Brush cleaning
Filter PALL DFA-4201 NIEY 0.1um
Flow meter: Max. 1000 ml /min
Spin motor specifications (Top Side Unit):
Motor: brushless servo motor
Revolution: 0 rpm to 4000rpm
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Max. acceleration: 50000 rpm/s
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Accuracy: ±1.5 rpm
Max. revolutions: 9990 rpm(motor individual)
Spin Motor Specification:(Back Side Unit)
Motor: brushless servo motor
Chuck pin : PEEK
Revolution: 0 rpm to 6000 rpm
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Max. acceleration: 1000 rpm/s
(subject to load of 150mm silicon wafer)
Accuracy: ±1.5 rpm
Max. revolutions: 9990 rpm(motor individual)
Chuck positioning mechanism: driven by spin motor
D-Sonic nozzle specifications:
Ultrasonic output: Max 48 W (1.5 MHz)
Output current: 0.3 to 0.9A
DI water flow rate: 0.6 to 1.0 L/min (variable by needle)
Other specifications:
(1) DI water
(1) N2
(1) Vacuum
(1) Dry Air
(2) Spin exhausts.
DNS/DAINIPPON 80A ist eine Photoresist-Ausrüstung, die bei der Herstellung von Chips für verschiedene integrierte Schaltungskomponenten verwendet wird. Es ist eine einzige, in sich geschlossene Plattform, die die flüssigkristalline Resistchemie, die Belichtungsoptik und die Behandlungsschritte nach der Belichtung bereitstellt, die für den Prozess der Herstellung hochleistungsfähiger integrierter Halbleiterschaltungen mit hoher Ausbeute entscheidend sind. Das System besteht aus einer Quecksilberbogenlampe, die eine hohe Neon-Argon-Linienleistung für die ein- oder vertikale Doppelbelichtung bietet. Die Vakuumoptik enthält einen Vakuumintegrator, eine verstellbare Brennwertkondensatorlinse mit variablem Abstandshalter, polarisiertes Glas und eine Irisblende. Die Optikbaugruppe enthält auch einen „Funken“ -Anzeiger, mit dem die Lichtbogenentladung durch die mattierte Kondensatorlinse beobachtet werden kann. Die Resistchemie verwendet eine wässrige Basislösung und verfügt über eine Backfähigkeit ohne Softbake. Dadurch kann ein dazwischenliegender Entwicklungsschritt eliminiert und damit der Durchsatz erhöht werden. Die Resistchemie weist auch aktive Korrekturen für die Auswirkungen von Temperatur, Feuchtigkeit und Lichteinwirkung auf. Das Gerät enthält auch eine Nachbelichtungsbehandlung oder ein PET-Modul, das die Leistung der Maschine optimieren soll. Dieses Modul enthält eine Infrarot-Energiequelle und ein Plasmafilter. Der Plasmafilter reduziert die Defektivität der belichteten Resistschichten, während die IR-Energiequelle den Aushärtungsprozess beschleunigt, was die Entwicklungszeit reduziert. Mit zusätzlichen PET-Komponenten kann das Werkzeug weiter an spezifische Anwendungsanforderungen angepasst werden. DNS 80A photoresist asset ist ein vollautomatisches Modell, das für den Einsatz in einer Lithographieanlage zur Herstellung von Hochleistungs- und Hochleistungs-Halbleiterschaltungen entwickelt wurde. Es wurde mit modernster Optik und Widerstandstechnologie entwickelt, um Durchsatz und Ertrag zu optimieren und gleichzeitig die Flexibilität zu bieten, die für einen erfolgreichen Prozess unerlässlich ist.
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