Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-2000 #118481 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 118481
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Spin coater / Developer DUV track system, 8"
Wafer flow direction: L-type
Wafer type: Notch
IF-B
Spinner unit configuration:
(2) Coaters
B-ARC (2) Coaters
(3) Developers
Indexer:
Left type
Wafers: SEMI Standard wafers / Notch type
Standard type
(4) Uni cassettes
Coater:
SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4):
Includes:
Cups
EBR Function
Resist lines: 8 Line
Resist pump: PDS-105G-KPV4
Cup rinse function
Back side rinse
Cup rinse
Pot rinse
EBR (Edge bead removal)
Prewet function
SC3 (Unit 5) & SC4 (Unit 6):
Cups: 1
Includes:
EBR Function
Resist pump: PDS-105G-KPV4
Resist lines: 4 Line
Cup rinse function
Back side rinse
Cup rinse
Pot rinse
EBR (Edge bead removal)
Prewet function
Bake:
HP: (6) Units (8, 9, 11, 12, 17, 18)
RHP: (8) Units (25, 26, 28, 29, 31, 32, 35, 36)
CP: (7) Units (7, 10, 16, 24, 27, 30, 34)
AHL: (3) Units (13, 14, 15)
EEW: Unit (33)
Developer:
SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4):
Cups
Developer number nozzle
DIW Rinse nozzle
Back side rinse line
Flow meters with sensor: DEV, DIW1, DIW2, Back-side rinse, ORG, FWD
Includes:
Dev1
Prewet
DIW1
Back side rinse
TR Includes:
TR1 Arm
TR2 Arm
TR3 Arm
Others:
Thermo controller model: CET-CU, Mass 7kg
THC Model: SPC-2313-UC-A
CP Controller model: FRD-A200-UC
HMDS Supply type: Quart bottle to buffer tank
Thinner supply type: Canister tank
Developer supply type: Facility supply
EEW:
Unit (33)
Lamp house type with lamp house
Miscellaneous:
Signal tower lamp: 3 Color (Red, orange, green)
Sub module configuration:
Source bottle cabinet
SC Cabinet
ETU Cabinet
Controller cabinet
IFB ACU Cabinet
Input power supply box
Main gas valve close
Gas (Air, N2) line purge
Chemical (Developer, DIW) line purge
Drain PCW end capping
Gas line (N2) end capping
Chemical (Developer, DIW) line end capping
Spin unit (Coater & developer) exhaust line caping
Bake unit exhaust line caping
Leak check
Main power: 3 Phase, 200 V, full load 20.44 kVA, 59A
50/60 Hz, 3 Wires and GND/PE
Rating 400A, AIC 65kA, motor 8A
2003 vintage.
DNS/DAINIPPON SK-2000 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung, die für die Verarbeitung von mikrofeinen Mustern entwickelt wurde. Das System verwendet eine einzigartige, fortschrittliche, Präzisionskamera-Bildgebungseinheit, die eine perfekte Registrierung und Belichtungssteuerung bietet und die Verwendung einer breiten Palette von Fotoresistmaterialien ermöglicht. Für optimale Belichtung und höchste Flexibilität stehen sowohl Kontakt- als auch Projektionswerkzeuge zur Verfügung. Das fortschrittliche Kontaktbelichtungswerkzeug erzeugt eine extrem hochwertige Bildregistrierung, die eine vollkommen gleichmäßige Belichtung über die gesamte Oberfläche der Fotomaske ermöglicht. Das Projektionsbelichtungswerkzeug soll die Verzerrung feiner Geräte durch den Einsatz einer hochgenauen optischen Maschine reduzieren, was letztlich die Belichtungsgenauigkeit, Linearität und Ausbeute erhöht. Das Tool bietet auch erweiterte Funktionen wie Submikron-Auflösung, 0,15 Mikron minimale Belichtungsgleichförmigkeit und Belichtungsstabilitätskontrollfunktionen. Die Submikron-Auflösung sorgt dafür, dass extrem kleine Lithographie-Merkmale mit ausgezeichneter Genauigkeit und Detailgenauigkeit erreicht werden können. Die Funktionen zur Steuerung der Belichtungsstabilität ermöglichen präzise Anpassungen nicht nur an den Belichtungspegel, sondern auch an die Dauer, die für konsistente Ergebnisse entscheidend sind. Das Asset verfügt über einen Hochgeschwindigkeitsmodus für extrem hohe Temperaturbelastung, der den Durchsatz erhöht und die Prozesszeit reduziert. Ein weiteres Merkmal dieses Modells ist seine Fähigkeit, Belichtungswellenlängen von einer einzigen Quelle zu schalten, so dass mehrere Empfindlichkeiten für verschiedene Belichtungstypen verwendet werden können. Über DNS SK2000 Photoresist-Geräte bietet das Design eine starke Robustheit gegenüber Temperaturschwankungen und reduziert Partikel signifikant, was die Gesamtbelichtungssicherheit erhöht. Insgesamt bietet dieses System eine optimale Lösung für Lithographieanwendungen, die ultrafeine Muster erfordern.
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