Gebraucht DNS / DAINIPPON SK-2000 #118481 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 118481
Wafergröße: 8"
Weinlese: 2003
Spin coater / Developer DUV track system, 8" Wafer flow direction: L-type Wafer type: Notch IF-B Spinner unit configuration: (2) Coaters B-ARC (2) Coaters (3) Developers Indexer: Left type Wafers: SEMI Standard wafers / Notch type Standard type (4) Uni cassettes Coater: SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4): Includes: Cups EBR Function Resist lines: 8 Line Resist pump: PDS-105G-KPV4 Cup rinse function Back side rinse Cup rinse Pot rinse EBR (Edge bead removal) Prewet function SC3 (Unit 5) & SC4 (Unit 6): Cups: 1 Includes: EBR Function Resist pump: PDS-105G-KPV4 Resist lines: 4 Line Cup rinse function Back side rinse Cup rinse Pot rinse EBR (Edge bead removal) Prewet function Bake: HP: (6) Units (8, 9, 11, 12, 17, 18) RHP: (8) Units (25, 26, 28, 29, 31, 32, 35, 36) CP: (7) Units (7, 10, 16, 24, 27, 30, 34) AHL: (3) Units (13, 14, 15) EEW: Unit (33) Developer: SC1 (Unit 3) & SC2 (Unit 4): Cups Developer number nozzle DIW Rinse nozzle Back side rinse line Flow meters with sensor: DEV, DIW1, DIW2, Back-side rinse, ORG, FWD Includes: Dev1 Prewet DIW1 Back side rinse TR Includes: TR1 Arm TR2 Arm TR3 Arm Others: Thermo controller model: CET-CU, Mass 7kg THC Model: SPC-2313-UC-A CP Controller model: FRD-A200-UC HMDS Supply type: Quart bottle to buffer tank Thinner supply type: Canister tank Developer supply type: Facility supply EEW: Unit (33) Lamp house type with lamp house Miscellaneous: Signal tower lamp: 3 Color (Red, orange, green) Sub module configuration: Source bottle cabinet SC Cabinet ETU Cabinet Controller cabinet IFB ACU Cabinet Input power supply box Main gas valve close Gas (Air, N2) line purge Chemical (Developer, DIW) line purge Drain PCW end capping Gas line (N2) end capping Chemical (Developer, DIW) line end capping Spin unit (Coater & developer) exhaust line caping Bake unit exhaust line caping Leak check Main power: 3 Phase, 200 V, full load 20.44 kVA, 59A 50/60 Hz, 3 Wires and GND/PE Rating 400A, AIC 65kA, motor 8A 2003 vintage.
DNS/DAINIPPON SK-2000 ist eine Hochleistungs-Photoresist-Ausrüstung, die für die Verarbeitung von mikrofeinen Mustern entwickelt wurde. Das System verwendet eine einzigartige, fortschrittliche, Präzisionskamera-Bildgebungseinheit, die eine perfekte Registrierung und Belichtungssteuerung bietet und die Verwendung einer breiten Palette von Fotoresistmaterialien ermöglicht. Für optimale Belichtung und höchste Flexibilität stehen sowohl Kontakt- als auch Projektionswerkzeuge zur Verfügung. Das fortschrittliche Kontaktbelichtungswerkzeug erzeugt eine extrem hochwertige Bildregistrierung, die eine vollkommen gleichmäßige Belichtung über die gesamte Oberfläche der Fotomaske ermöglicht. Das Projektionsbelichtungswerkzeug soll die Verzerrung feiner Geräte durch den Einsatz einer hochgenauen optischen Maschine reduzieren, was letztlich die Belichtungsgenauigkeit, Linearität und Ausbeute erhöht. Das Tool bietet auch erweiterte Funktionen wie Submikron-Auflösung, 0,15 Mikron minimale Belichtungsgleichförmigkeit und Belichtungsstabilitätskontrollfunktionen. Die Submikron-Auflösung sorgt dafür, dass extrem kleine Lithographie-Merkmale mit ausgezeichneter Genauigkeit und Detailgenauigkeit erreicht werden können. Die Funktionen zur Steuerung der Belichtungsstabilität ermöglichen präzise Anpassungen nicht nur an den Belichtungspegel, sondern auch an die Dauer, die für konsistente Ergebnisse entscheidend sind. Das Asset verfügt über einen Hochgeschwindigkeitsmodus für extrem hohe Temperaturbelastung, der den Durchsatz erhöht und die Prozesszeit reduziert. Ein weiteres Merkmal dieses Modells ist seine Fähigkeit, Belichtungswellenlängen von einer einzigen Quelle zu schalten, so dass mehrere Empfindlichkeiten für verschiedene Belichtungstypen verwendet werden können. Über DNS SK2000 Photoresist-Geräte bietet das Design eine starke Robustheit gegenüber Temperaturschwankungen und reduziert Partikel signifikant, was die Gesamtbelichtungssicherheit erhöht. Insgesamt bietet dieses System eine optimale Lösung für Lithographieanwendungen, die ultrafeine Muster erfordern.
Es liegen noch keine Bewertungen vor