Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9167965 zu verkaufen

FSI/TOKYO ELECTRON FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 Photoresist ist ein High-End-Photolithographie-Tool, das in der Halbleiter- und integrierten Schaltungsherstellung verwendet wird. Es ermöglicht Benutzern, präzise Schaltungsmuster auf integrierten Schaltungskomponenten zu erstellen. Das System verfügt über eine hochauflösende Projektionslinse, einen Hochgeschwindigkeits-Stepper, eine Quarz-Laserquelle und eine proprietäre automatisierte Belichtungseinheit. Die Maschine ist in der Lage Submikron-Auflösung bei hoher Ausbeute und erhöhter Produktivität. Die überlegene Optik ermöglicht die direkte Abbildung kleinerer Merkmale ohne zusätzliche Komponenten. Das Tool beinhaltet eine ausgeklügelte Brennweitenkontrolle, die es Anwendern ermöglicht, optimale Genauigkeit bei der Erstellung komplizierter Muster zu erzielen. FSI Polaris 2000 verfügt über Präzisions- und Hochgeschwindigkeitsschrittmotoren, mit denen der Benutzer Belichtungsparameter auswählen kann, die die besten Ergebnisse liefern. Das Modell unterstützt sowohl Sprüh- als auch Spin-Beschichtungsprozesse, um eine präzise Schichtdicke im Herstellungsprozess zu liefern. Das Gerät umfasst auch eine Quarz-Laserquelle, die überlegene Mikrofokus und hohe Belichtungsleistung bietet. Das proprietäre automatisierte Expositionssystem von TEL Polaris 2000 wurde entwickelt, um die Belichtungszeit zu reduzieren und den Ertrag zu maximieren. Die automatisierte Belichtungseinheit verwendet fortschrittliche Algorithmen, um optimale Belichtungsparameter für ein bestimmtes Substrat zu ermitteln. Die Maschine passt sich auch automatisch an prozessabhängige Größen an und nimmt im Laufe der Zeit Drift in Werkzeugparametern auf. Zur Ausstattung gehört eine intuitive Touchscreen-Oberfläche für einfache Bedienung. TOKYO ELECTRON Polaris 2000 verfügt über einen breiten Funktionsbereich, mit dem Benutzer Funktionen von bis zu 0,1 Mikron Größe erstellen können. Das Modell ist so konzipiert, dass es in enge Räume passt, und ist in einer Vielzahl von Konfigurationen erhältlich, die verschiedenen Arbeitszellenlayouts entsprechen. Das Gerät ist mit einer breiten Palette von Photolackmaterialien kompatibel und kann sowohl mit thermischen als auch nicht-thermischen Systemen verwendet werden. Polaris 2000 ist ein fortschrittliches Photolithographiesystem, das für eine Vielzahl von Halbleiter- und integrierten Schaltungsanwendungen geeignet ist. Seine hochauflösende Projektionslinse, Hochgeschwindigkeitsstufe, Quarz-Laserquelle und automatisierte Belichtungseinheit bieten Benutzern die Genauigkeit, Geschwindigkeit und Ausbeute, die sie in ihren jeweiligen Branchen herausragend benötigen.