Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9202286 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 Photoresist ist ein multifunktionales, volumenarmes CASS/Lithographiesystem, das für die Produktion integrierter Schaltungen verwendet wird. FSI Polaris 2000 ist eine Photoresist-Einheit in voller Formgröße mit einer Scribing-Flächenabdeckung von bis zu 12 Zoll breiten Wafern. Die Maschine ist unter Berücksichtigung von Prozessflexibilität und Skalierbarkeit konzipiert und bietet Photolithographie-Prozesse für die mehrschichtige Geräteproduktion. Das Tool verwendet ein Photoresist Asset und Computar-assisted Photo-Lithographie (CASS), um eine einzelne Schicht Photoresist genau und präzise auf ein Mehrschichtgerät aufzubringen. Die Maschine ist mit einer 6.5KW kapazitiven Stromversorgung, einem Mehrwellenformgenerator und einer Doppelzonenheizung zur gleichmäßigen Aushärtung der Schichten ausgestattet. Die Stromversorgung bietet sowohl Präzision als auch eine Vielzahl von Leistungsstufen, die eine verbesserte Präzision und Wiederholbarkeit ermöglichen, während CASS und Multi-Zone eine genaue Ausrichtung, Auflösung und Belichtung des Fotolacks ermöglichen. Das Modell ermöglicht die genaue Abgabe von Photolacklösung in einer kontrollierten Umgebung. Das zweistufige Abgabeverfahren; der erste Schritt eine Abgabepumpe mit variabler Geschwindigkeit verwendet und der zweite Schritt ein einstellbares Luftmesser verwendet, um den Photolackfluss auf der Zielschicht zu formen und zu steuern. Die Maschine verfügt auch über einstellbare Luftmesser, die Strömungen bis zu 12 "Breite sowie Rate und Volumensteuerung ermöglichen. Die automatisierten Be- und Entladefunktionen ermöglichen die vollständige Automatisierung des Be-/Entladens von Substraten und bieten eine integrationsbereite Integration in andere FSI-Systeme. Die Maschine bietet auch eine Vielzahl von Verbesserungsoptionen wie digitale Bildanalyse, automatische Filmdickenmessung und verbesserte Datenreproduzierbarkeit. Die Polaroid 2000 Ausrüstung ist in der Lage, Prozesszeiten von unter 12 Sekunden bis fast 12 Minuten, und kann Schichtdicke so niedrig wie 0,3 Mikrometer und so hoch wie 600 Mikrometer. Das System kann eine Filmwiederholbarkeit innerhalb von 6nm von Schicht zu Schicht mit erreichen und verfügt auch über eine Sichtpositionierung bis zu 200nm. Zusammenfassend ist TEL Polaris 2000 Photoresist Unit eine multifunktionale, niedervolumige CASS/Lithographie-Maschine, die für die Produktion integrierter Schaltungen verwendet wird, verfügt über eine integrierte Stromversorgung, Mehrwellenformgenerator, Dual-Zone-Heizung und automatisches Pod-Laden/Entladen für verbesserte Leistung und Genauigkeit für Wafer Scribing. Das Werkzeug hat eine breite Palette von Prozesszeiten und ermöglicht eine präzise Auflösung und Wiederholbarkeit.