Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000 #9278707 zu verkaufen

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FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris 2000
Verkauft
ID: 9278707
Wafergröße: 6"
Systems, 6" NIKON i11 Stepper included 1997-2004 vintage.
FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 ist eine Photoresist-Ausrüstung, die die Herstellung einer Vielzahl von Geräten unterstützt. Das System verwendet eine flüssige chemische Verbindung, bekannt als Photoresist, die eine Reaktion durchläuft, wenn sie mit Licht beleuchtet wird. Das Licht belichtet selektiv das Photolackmaterial, so daß die Strukturierung der Photolackschicht mittels eines rechnergesteuerten Lichtstrahls erfolgen kann. FSI Polaris 2000 ist ein ultraviolettes Belichtungswerkzeug, das sich für die Herstellung von unzähligen Konstruktionen in Bezug auf die Genauigkeit eignet. Dieses Gerät ist eine ideale Wahl für jede Art von mikroelektronischen Gerät und verfügt über eine Lithographie-Leistung mit einer ultravioletten Laserleistung von bis zu 300 mW/cm ². Das Werkzeug ist mit erweiterten Steuerungsfunktionen ausgestattet, einschließlich einer echten zweidimensionalen internen Waferstufe, einer z-Stufe, einer Drehstufe, einer automatischen Belichtung oder einer manuellen Belichtung und einer Feuchtigkeitssteuereinheit. Die Maschine ist auch mit einer Vielzahl von automatisierten Prozesssteuerungsfunktionen ausgestattet, darunter ein Dunkelfeldwerkzeug, verschiedene Arten von Fokusentwicklungstechniken, Filmdickensteuerung und verbesserte Prozesssteuerung. TEL Polaris 2000 kann auch als Schrittwerkzeug verwendet werden, das Flexibilität bei der Entwicklung eines Musters mit diesem additiven Photoresist-Ansatz bietet. Dieses Asset ermöglicht die Erzeugung mehrerer Muster mit einem einzigen maskierten Wafer und die präzise Strukturierung einer Vielzahl von Substraten und Gerätegeometrien. Die integrierte automatische Ausrichtung des Werkzeugs ermöglicht eine höhere Genauigkeit und Ausrichtung mehrerer Ebenen auf einem einzelnen Wafer. Wenn es darum geht, optimale Arbeitsbedingungen für ein Photolackmodell zu erhalten, bietet Polaris 2000 eine Reihe von Umweltschutzmerkmalen. Dieses Gerät verfügt über ein eingebautes Filtersystem zur Feuchtigkeits- und Temperaturregelung sowie einen eingebauten Schwingungsisolationstisch, der den Einfluss äußerer Bedingungen auf den Prozess reduziert. Um die Zuverlässigkeit des Photoresist-Entwicklungsprozesses zu maximieren, verfügt TOKYO ELECTRON Polaris 2000 auch über eine konstante Ausgangsleistungsüberwachungseinheit sowie eine integrierte Fokusverhältnisüberwachungsmaschine. FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris 2000 von FSI ist ein fortschrittliches Photolackwerkzeug, das die Herstellung einer Vielzahl von Geräten unterstützt. Die Anlage ist mit fortschrittlichen Steuerungsfunktionen für eine vielseitige Lithographieleistung ausgestattet und verfügt über ausreichende Umweltkontrollfunktionen für optimale Arbeitsbedingungen. Dieses Modell kann als Schrittwerkzeug für Flexibilität und Präzision bei der Entwicklung eines Musters verwendet werden und ist ideal für jede Art von mikroelektronischen Geräten.
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