Gebraucht FSI / TEL / TOKYO ELECTRON Polaris #9212671 zu verkaufen

FSI/TEL/TOKYO ELECTRON Polaris ist eine fortschrittliche Photolackausrüstung, die von FSI Ltd. entwickelt und hergestellt wurde. Das System ist für die hochgenaue und durchsatzstarke Strukturierung von Photolacken ausgelegt, die in Halbleiterverarbeitungsanwendungen verwendet werden. Das Gerät ist in der Lage, Muster bis zu einer Größe von 50 nm mit ausgezeichneter Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erzeugen. Die Maschine besteht aus einem fortschrittlichen Abscheide- und Musterprozess, der die genaue und durchsatzstarke Erzeugung feiner Muster in Photoresists ermöglicht. Die erste Stufe des Verfahrens ist das Aufbringen einer Photolackschicht auf die Waferoberfläche. Dieser Photolack wird dann einer Lichtquelle, wie einem Laser, ausgesetzt, und die photoaktiven Bestandteile im Photolack reagieren mit der Lichtenergie, die ein Muster oder eine Strukturierung im Photolack erzeugt. Das Werkzeug verwendet dann ein Lösungsmittel, um den Photolack in den Bereichen, die nicht der Lichtquelle ausgesetzt sind, wegzuätzen. Dadurch entsteht das gewünschte Muster im Fotolack. FSI Polaris asset ist mit einem hochpräzisen automatisierten Scanner für den Abscheide- und Musterprozess ausgestattet. Dieser Scanner ist in der Lage, die Lichtquelle sowie die Fotolackabscheidung genau zu positionieren und zu steuern. Das Modell enthält auch fortschrittliche Software, die die genaue Steuerung des Musterprozesses ermöglicht. Diese Software ermöglicht die Einstellung der Lichtintensität, Mustergröße und -form sowie anderer Parameter. TEL Polaris umfasst auch eine breite Palette von Verfahren und Anlagen, um den belichteten Photolack zu verarbeiten. Diese Verfahren umfassen das Backen und Entwickeln des Photolacks sowie das Ätzen und Reinigen des belichteten Photolacks. Das System ist auch in der Lage, komplexe Muster, wie durchgehende Löcher und Mehrschichtmuster, mit Leichtigkeit und Genauigkeit zu erstellen. Abschließend ist Polaris eine fortschrittliche Photolackmaschine, die für die Herstellung hochgenauer und hochdurchsatzreicher Photolackmuster entwickelt wurde. Das Werkzeug ist mit einem hochpräzisen automatisierten Scanner, fortschrittlicher Mustersoftware und einer breiten Palette von Prozessen und Geräten zur Verarbeitung des belichteten Fotolacks ausgestattet. Das Asset ist in der Lage, komplexe Muster bis zu 50 nm mit ausgezeichneter Genauigkeit und Wiederholbarkeit zu erstellen.