Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS 0242-73818-1 #9131586 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT 0242-73818-1 Reaktor ist eine Halbleiter-Wafer-Bearbeitungsanlage, die mit speziellen Eigenschaften entwickelt wurde, um Hochgeschwindigkeits- und hochwertige Fertigung von hochmodernen integrierten Schaltungen (ICs) zu ermöglichen. Der Reaktor ist mit einer kompakten Systemplattform gebaut, die eine automatisierte Prozesskammer und Roboterarmeinheit verwendet, um schnelles Be- und Entladen zu ermöglichen und gleichzeitig die Komplexität in den Produktionsabläufen zu minimieren. Der Reaktor weist eine Quarzprozesskammer auf, die mit unabhängig verstellbaren Gas- und Duschkopfeinheiten ausgestattet ist. Durch diese Maßnahme können verschiedenste Prozessparameter eingestellt und angepasst werden, um optimale Bedingungen für spezifische Wafer-Fertigungsprozesse zu schaffen. Die Kammer enthält auch eine Vielzahl von kleinen thermischen Spreizern verteilt über alle, um gleichmäßige Verarbeitungstemperaturen mit genauer Kontrolle zu gewährleisten. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über eine patentierte Hochfrequenz-Plasmaquelle, die eine schnellere Reinigung, schnelleres Ätzen und höhere Leistung der Wafer ermöglicht. Der Reaktor verfügt auch über eine eingebaute Roboterarmmaschine, die einen einfachen Zugang zum Be- und Entladen der Wafer in und aus der Prozesskammer bietet. Der Roboterarm wird durch ein voll integriertes Bewegungssteuerungswerkzeug gesteuert, was es dem Bediener erleichtert, alle Aspekte des Prozesses zu steuern. Der Roboterarm ist hochmodular aufgebaut und kann einfach für verschiedene Wafer und ICs angepasst werden, was einen erhöhten Durchsatz und eine höhere Produktionseffizienz ermöglicht. Darüber hinaus ermöglicht eine einzigartige Sechs-Achsen-Fähigkeit eine flexiblere Steuerung der Prozessumgebung. Insgesamt ist der Reaktor AKT 0242-73818-1 ein fortschrittlicher Reaktor, der für schnelle, präzise und effiziente Waferherstellungsprozesse geeignet ist. Seine automatisierte Funktion kombiniert mit den unabhängigen Gas- und Duschkopfeinheiten, den thermischen Streuern und der patentierten Hochfrequenz-Plasmaquelle, dem eingebauten Roboterarm und dem integrierten Bewegungssteuerungsmodell machen es ideal für die Produktion von hochwertigen Wafern in hoher Stückzahl.