Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly #9253660 zu verkaufen

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly
ID: 9253660
Wafergröße: 12"
Polysilicon etcher, 12".
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly ist ein Plasmaätzreaktor, der sowohl in F&E als auch in industriellen Ätzprozessen eine hohe Produktivität bietet. Das Gerät ist eine fortschrittliche Variante der beliebten Centura AP-Plattform und wurde speziell entwickelt, um verbesserte Ätzraten, höhere Partikelreduzierung und eine bessere Gesamtprozessleistung zu liefern. Das System nutzt eine exklusive Advanced High Frequency (AHF) fortschrittliche Telekommunikationstechnologie, um eine überlegene Plasmaerzeugung, Gleichmäßigkeit und Prozessreproduzierbarkeit mit minimaler Belastung des Substratmaterials bereitzustellen. Darüber hinaus verfügt das Minos Poly über drei optimierte Ätzstufen (niedrig, mittel und hoch), die eine breite Palette von Prozessfunktionen ermöglichen. Das Gerät wird von einer AMAT-konstruierten, 0,7 ml High Density Plasma (HDP) -Quelle angetrieben. Diese Quelle bietet eine hervorragende Kontrolle über die Ätzchemie und ermöglicht eine präzise Verarbeitung sowohl von High-K- als auch von Low-K-Ätzrezepten. Darüber hinaus bietet die Quelle eine überlegene Prozessgleichmäßigkeit und eine außergewöhnliche Ätzratenoptimierung und reduziert plasmainduzierte Schäden am Substratmaterial erheblich. Dieser Plasmaätzreaktor ist mit einer Vielzahl optionaler Zubehörteile wie Vakuumpumpe, Abschirmmaschine und Rezirkulationswerkzeug mit 0,1 Pa Grunddruck ausgestattet. Darüber hinaus ist der Minos Poly in der Lage, sowohl DC- als auch MF-Operationen durchzuführen, die sowohl Richt- als auch nichtrichtende Ätzprofile ermöglichen. AMAT Centura AP AdvantEdge G2 Minos Poly ist mit einer Vielzahl von Ätzrezepten kompatibel und bietet erweiterte Steuerungs- und Überwachungsfunktionen mit manuellen und halbautomatischen Steuerungen. Darüber hinaus verfügt die Anlage über ein umfangreiches Spektrum an Prozessüberwachungswerkzeugen, einschließlich Prozesstemperaturkontrolle, Plasmaemissionsüberwachung, Vakuumdrucküberwachung und Partikelzählfunktionen. Insgesamt ist das Minos Poly ein zuverlässiges und robustes Modell, das präzise Ätzfunktionen für eine Vielzahl von Substraten bietet. Dieser Plasmaätzreaktor eignet sich gut für Großserienproduktion, F&E und Testanwendungen in Branchen wie Elektronikverpackung, Leiterplattenherstellung und Halbleiterbauelementherstellung.
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