Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9051354 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9051354
Wafergröße: 6"
Weinlese: 1991
CVD system, 6"
(2) Chambers
Vacuum processing type
Wafer type: Notch
MFC:
Gas #1: N2 1 slm
Gas #2: C2F6 1 slm
Gas #3: HE 1 slm
Gas #4: N2 1 slm
Gas #5: N2 1 slm
Gas #6: N2 1 slm
Gas #7: N2 3 slm
Gas #8: HE 1 slm
Gauge:
MKS 122BA Baratron, 100 torr
MKS 626A Baratron, 100 pa
Includes:
(2) AD Tec generators AX-1000 II
(2) AMAT Matchers
AC Rack
Gas box
(2) Chemical boxes
DEFENSA UPS1010
Heat exchanger
FUJI ELECTRIC Transformer
Main frame
1991 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hochpräziser, leistungsstarker Wärmeverarbeitungsreaktor mit einem Wafer. Es ist für Batch-Prozesse in Halbleiter-, MEMS und anderen fortschrittlichen Werkstoffindustrien konzipiert. Die Genauigkeit, der Durchsatz und die Präzision von AMAT- P-5000 bei der Herstellung integrierter Komponenten machen es zu einem leistungsstarken, kostengünstigen Werkzeug zur Herstellung von Kristallwafern und Halbleitermaterialien. Der Reaktor besteht aus zwei Hauptkomponenten: der Prozesskammer und der Druckkammer. Die Prozesskammer weist einen rotierenden Suszeptor zur homogenen Erwärmung und Kühlung sowie einen Gasinjektor zur präzisen Gasregelung auf. Die Druckkammer beherbergt den Druckregler und eine 300-Millibar-Gasfördereinrichtung. Das Gasfördersystem ist so konzipiert, dass es eine extrem präzise Regelung von Prozessgasen und Temperatur unter Beibehaltung der niedrigen Druckstabilität ermöglicht. APPLIKATIONSMATERIALIEN P 5000 Reaktor ist auch mit einer patentierten Flameout-Einheit ausgestattet. Diese Maschine misst Prozessparameter und bietet erweiterte Feedback-Steuerung und Diagnose. Dieses Tool schützt vor Prozessinstabilität und sorgt für optimale Prozessleistung. AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 Reaktor ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien zu verarbeiten, einschließlich Galliumarsenid, Quarz, Galliumnitrid, Siliciumcarbid und III-V-Verbindungen. Verfahren werden entwickelt, um hohe Temperaturen, schnelle Kühlung und Prozessdrücke von einem mbar bis 900 mbar zu erreichen. Darüber hinaus verfügt AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 über plasmaverbesserte chemische Dampfabscheidung, atomare Schichtabscheidung und nanoskalige Mustertechnologien zur Herstellung hochintegrierter Komponenten. Hinsichtlich Sicherheit und Zuverlässigkeit setzt P 5000 Reaktor den Standard. Es ist mit einer kompletten Sicherheitseinrichtung, einschließlich einer Drucküberwachung, einem Vakuumsperrventil, einem Wasserstoffdurchflussventil und einem Hochdruck-Abgaslecksucher, ausgelegt. Darüber hinaus verfügt der Reaktor über einen zweigleisigen einstufigen Prozessregler und ein Sicherheitsabschaltmodell zur Temperaturregelung, um die Prozessstabilität zu gewährleisten. Letztlich ist APPLIED MATERIALS P5000 Reaktor ein fortschrittliches, zuverlässiges und kostengünstiges Werkzeug zur Herstellung von Kristallscheiben und Halbleitermaterialien. Seine Genauigkeit, sein Durchsatz und seine Präzision machen es zu einem wertvollen Werkzeug für Konstrukteure und Fertigungsexperten.
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