Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9052241 zu verkaufen

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ID: 9052241
CVD System, 8" Process: SIO Process chamber: Chamber A, B: SIO Chamber D: ETCH Chamber version: Chamber A & B: Standard VAT ISO valve Chamber D: Standard RF Generator type: Chamber A & B: OEM-12B Dry pump type: Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J Throttle valve type: Chamber A, B & D: Non heated VME System: 20 Slots CPU: Synergy Video: VGA SEI AI AO (4) DI/DO (4) Steppers Hard Disk Drive (HDD) Floppy Disk Drive (FDD), 3.5" Manometer type: Chamber A & B: MKS 122B 11441 Chamber D: MKS 127AA RF Matching box type: Chamber A & B: 0010-09750D DR Chamber D: 0010-09416 Turbo pump type: Chamber D: LEYBOLD NT340M System electronic type: (2) TC Gauges Buffer I/O AI MUX (2) OPTO (4) Choppers +12VPS +15VPS -15VPS Storage elevator: 8 Slots Cassette handler: Phase III, top clamp Robot: Phase III Blade: Phase III I/O Wafer sensor Load lock purge Heat exchanger: AMAT0: Connect to chamber A, B & D: Wall / LID Main frame front type: Through-the-wall Standard remote frame TC Gauge type: Chamber-A Rough: VCR Chamber-B Rough: VCR Chamber-D Rough: VCR L/L Rough: VCR L/L Chamber: VCR Lamp module type: Chamber A & B: STD 0010-09337 Mini-con Magnet driver type: Chamber A: P/N 0015-09091 Chamber B: P/N 0015-09573 Chamber C: P/N 0015-70060 Gas panel type: (28) Gases Signal tower MFC Type (Main): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400 D / O2 / 100 / N2 / STEC / SEC-4400 D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400 MFC Type (Remote): Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400 D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400 1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein physikalischer PVD-Reaktor, der bei der Herstellung mikroelektronischer Geräte unterstützt. Es ist entworfen, um präzise Mengen von Material auf einem sehr kleinen Fußabdruck abzulegen, so dass es ein wertvolles Werkzeug bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. AMAT P-5000 ermöglicht die Abscheidung von Kupfer, Aluminium, Wolfram, Gold und anderen Materialien auf Substraten wie Silizium und Galliumarsenid. Angewandte Materialien P 5000 verwendet Lichtbogenverdampfung oder kathodische Lichtbogenverdampfung für die Abscheidung von Material. Dieses Verfahren beinhaltet hochenergetische Anoden, die eine Lichtbogenentladung abgeben, Material von der Anodenoberfläche lösen und im Vakuum verdampfen lassen. Dieser Dampf wird dann auf das Substrat gerichtet und bildet eine sehr gleichmäßige Abscheidung. Das Gerät ist für die unterschiedlichen Anforderungen verschiedener Substrate ausgelegt und wird ständig überwacht, um eine gleichmäßige Abscheiderate zu gewährleisten. P-5000 kann bis zu vier Kathodenziele aufnehmen und mehrere Materialschichten in einer Kammer abscheiden. Es verwendet auch ein „Side-Multi“ -Merkmal, das die Abscheidung auf beiden Seiten eines Substrats ermöglicht, wodurch eine zweite Kammer oder zusätzliche Werkzeuge entfallen. Das System umfasst auch einen in-situ 5-Achsen-Hubkolben, mit dem das Substrat gedreht werden kann, um eine gleichmäßige Abscheidung in alle Richtungen zu ermöglichen. P 5000 ist mit einer Load-Lock-Einheit ausgestattet, die Ausgangsgeschwindigkeiten von bis zu 7.000 Wafern pro Stunde ermöglicht. Es ist auch in der Lage, Substrate im Bereich von 25mm bis 300mm im Durchmesser aufzunehmen. Ein proprietärer Auto-Wafer-Tracker sorgt dafür, dass auch Substrate mit unregelmäßigen Formen abgelegt werden können. APPLIED MATERIALS unterstützt P5000 mehrere Sensor/Monitoring/Programmable Logic Control (SPS) Verfahren, die die Überwachung von Prozessparametern aufrechterhalten, um Probleme mit der hocheffizienten Produktion zu vermeiden. Zu den beliebtesten Verfahrenstechnologien gehören die optische Emissionsspektroskopie (OES), elektrochemische Potentiale (ECP) und die Temperaturprofilierung. Diese Maschine ermöglicht auch den Fernzugriff und die Überwachung von Online-Prozessen, was dazu beitragen kann, Ausfallzeiten zu reduzieren und die Produktivität zu verbessern. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ein hochentwickelter und zuverlässiger PVD-Reaktor, der die Abscheidung von Materialien auf mikroelektronischen Substraten unterstützt. Seine Präzision, Geschwindigkeit und mehrfache Prozesssteuerungsverfahren machen es zu einem nützlichen Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.
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