Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9052241 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9052241
CVD System, 8"
Process: SIO
Process chamber:
Chamber A, B: SIO
Chamber D: ETCH
Chamber version:
Chamber A & B: Standard VAT ISO valve
Chamber D: Standard
RF Generator type:
Chamber A & B: OEM-12B
Dry pump type:
Chamber A, B, D & L/L: EBARA 50x20 UERR 6M-J
Throttle valve type:
Chamber A, B & D: Non heated
VME System:
20 Slots
CPU: Synergy
Video: VGA
SEI
AI
AO
(4) DI/DO
(4) Steppers
Hard Disk Drive (HDD)
Floppy Disk Drive (FDD), 3.5"
Manometer type:
Chamber A & B: MKS 122B 11441
Chamber D: MKS 127AA
RF Matching box type:
Chamber A & B: 0010-09750D DR
Chamber D: 0010-09416
Turbo pump type:
Chamber D: LEYBOLD NT340M
System electronic type:
(2) TC Gauges
Buffer I/O
AI MUX
(2) OPTO
(4) Choppers
+12VPS
+15VPS
-15VPS
Storage elevator: 8 Slots
Cassette handler: Phase III, top clamp
Robot: Phase III
Blade: Phase III
I/O Wafer sensor
Load lock purge
Heat exchanger:
AMAT0:
Connect to chamber A, B & D: Wall / LID
Main frame front type: Through-the-wall
Standard remote frame
TC Gauge type:
Chamber-A Rough: VCR
Chamber-B Rough: VCR
Chamber-D Rough: VCR
L/L Rough: VCR
L/L Chamber: VCR
Lamp module type:
Chamber A & B: STD 0010-09337
Mini-con
Magnet driver type:
Chamber A: P/N 0015-09091
Chamber B: P/N 0015-09573
Chamber C: P/N 0015-70060
Gas panel type: (28) Gases
Signal tower
MFC Type (Main):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model
B / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
B / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
A / SIH4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / CF4 / 5000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / NF3 / 1000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 300 / N2 / STEC / SEC-4400
D / O2 / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
D / CF4 / 500 / N2 / STEC / SEC-4400
MFC Type (Remote):
Chamber / Flow Gas / Flow size / Calib gas / Maker / Model
B / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
A / N2O / 3000 / N2 / STEC / SEC-4400
D / AR / 100 / N2 / STEC / SEC-4400
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein physikalischer PVD-Reaktor, der bei der Herstellung mikroelektronischer Geräte unterstützt. Es ist entworfen, um präzise Mengen von Material auf einem sehr kleinen Fußabdruck abzulegen, so dass es ein wertvolles Werkzeug bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen. AMAT P-5000 ermöglicht die Abscheidung von Kupfer, Aluminium, Wolfram, Gold und anderen Materialien auf Substraten wie Silizium und Galliumarsenid. Angewandte Materialien P 5000 verwendet Lichtbogenverdampfung oder kathodische Lichtbogenverdampfung für die Abscheidung von Material. Dieses Verfahren beinhaltet hochenergetische Anoden, die eine Lichtbogenentladung abgeben, Material von der Anodenoberfläche lösen und im Vakuum verdampfen lassen. Dieser Dampf wird dann auf das Substrat gerichtet und bildet eine sehr gleichmäßige Abscheidung. Das Gerät ist für die unterschiedlichen Anforderungen verschiedener Substrate ausgelegt und wird ständig überwacht, um eine gleichmäßige Abscheiderate zu gewährleisten. P-5000 kann bis zu vier Kathodenziele aufnehmen und mehrere Materialschichten in einer Kammer abscheiden. Es verwendet auch ein „Side-Multi“ -Merkmal, das die Abscheidung auf beiden Seiten eines Substrats ermöglicht, wodurch eine zweite Kammer oder zusätzliche Werkzeuge entfallen. Das System umfasst auch einen in-situ 5-Achsen-Hubkolben, mit dem das Substrat gedreht werden kann, um eine gleichmäßige Abscheidung in alle Richtungen zu ermöglichen. P 5000 ist mit einer Load-Lock-Einheit ausgestattet, die Ausgangsgeschwindigkeiten von bis zu 7.000 Wafern pro Stunde ermöglicht. Es ist auch in der Lage, Substrate im Bereich von 25mm bis 300mm im Durchmesser aufzunehmen. Ein proprietärer Auto-Wafer-Tracker sorgt dafür, dass auch Substrate mit unregelmäßigen Formen abgelegt werden können. APPLIED MATERIALS unterstützt P5000 mehrere Sensor/Monitoring/Programmable Logic Control (SPS) Verfahren, die die Überwachung von Prozessparametern aufrechterhalten, um Probleme mit der hocheffizienten Produktion zu vermeiden. Zu den beliebtesten Verfahrenstechnologien gehören die optische Emissionsspektroskopie (OES), elektrochemische Potentiale (ECP) und die Temperaturprofilierung. Diese Maschine ermöglicht auch den Fernzugriff und die Überwachung von Online-Prozessen, was dazu beitragen kann, Ausfallzeiten zu reduzieren und die Produktivität zu verbessern. Abschließend ist AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 ein hochentwickelter und zuverlässiger PVD-Reaktor, der die Abscheidung von Materialien auf mikroelektronischen Substraten unterstützt. Seine Präzision, Geschwindigkeit und mehrfache Prozesssteuerungsverfahren machen es zu einem nützlichen Werkzeug für die Herstellung von Halbleiterbauelementen.
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