Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 #9056591 zu verkaufen

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 ist ein hochmoderner Plasmaätzreaktor, der speziell für die Halbleiterherstellung entwickelt wurde. AMAT P-5000 bietet einen höheren Durchsatz, schnellere Waferbelastung, verbesserte Sicherheitsmerkmale und eine längere Lebensdauer als der Vorgänger, der P3000. APPLIED MATERIALS P 5000 ist ein fortschrittlicher Plasmaätzreaktor mit einer hochoptimierten Elektronenzyklotronresonanz (ECR) oder induktiv gekoppelten Plasmaquelle (ICP), die überlegene Ätzraten und überlegene Profile für kritische Halbleiterprozesse bietet. Es ist in der Lage, eine Ätzrate von bis zu 250 nm/min zu erreichen, was einen effizienten Durchsatz und kürzere Durchlaufzeiten bei Prozesszyklen ermöglicht. P 5000 wurde mit fortschrittlichen Sicherheitsfunktionen und überlegenen Abgassystemen entwickelt, die branchenführenden Schutz für die Umwelt bieten. Die trockengepumpte Anlage sorgt für eine kontinuierliche Sauberkeit des Abgasabflusses und ermöglicht einen geringen fraktionierten Sauerstoffgehalt in der Kammer. Das mehrstufige Sicherheitsmanagementsystem ermöglicht eine reibungslose und sichere Inbetriebnahme des Reaktors. Ferner weist die Fenstertür eine Sicherheitsverriegelungseinheit auf, die eine versehentliche Exposition gegenüber Niederdruckplasmen verhindert. APPLIED MATERIALS P-5000 bietet hervorragende Lade- und Handhabungsfunktionen für Wafer. Es verfügt über eine vollautomatische Robotermaschine, die ein schnelles, zuverlässiges und wiederholbares Be- und Entladen von Wafern ermöglicht. Der Robotertransferarm beseitigt die schädliche Exposition des Menschen gegenüber der Prozesskammer und seine fortgeschrittenen Controller ermöglichen eine präzise Ausrichtung von Wafern innerhalb der Kammer. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 Reaktor bietet auch eine längere Lebensdauer der Kammer durch die Verwendung fortschrittlicher Materialien und Beschichtungen, was zu einer verbesserten Robustheit und geringeren Wartungsanforderungen führt. Die eingesetzten fortgeschrittenen Materialien sind hochbeständig gegen Erosion, Oxidation und Korrosion, um zuverlässige Ätzprozesse und eine lange Lebensdauer zu gewährleisten. Darüber hinaus enthält AMAT P 5000 ein hocheffizientes Kühlwerkzeug mit Wasser- und Stickstoffstrahlen, das Hochleistungsprozesse und eine überlegene Temperaturregelung unterstützt. Insgesamt ist AMAT/APPLIED MATERIALS P-5000 ein vielseitiger Plasmaätzreaktor für die Halbleiterherstellung, der mit überlegenen Sicherheitsmerkmalen, optimierter Waferbelastung und -handhabung und einer längeren Lebensdauer der Kammer ausgelegt ist. Es bietet einen höheren Durchsatz und schnellere Prozesszykluszeiten und ist damit die perfekte Lösung für moderne Produktionsanforderungen.