Gebraucht MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #9288402 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9288402
Wafergröße: 4"-6"
PVD System, 4"-6"
Controller upgraded
Power supply: 10 kW
(3) PVD chambers
(1) Etch chamber
Ultra high vacuum system
Atmospheric wafer handler
Electronics and control system
Wafer standard: SEMI
Wafer handling: Standard wafer handling of fragile wafers
Chamber 1:
ICP
Power supply: RF Generator
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: Stainless steel
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 2:
Titanium Nitride (Ti/TiN)
Process kit type: TiN (RMX-10)
Target type: Solder Bnd
Cathode type: RMX-10
Power supply: 10 kW
Tap setting: 3
T/S Spacing, 2.5"
Ar Entry: Door injection
Regas type: N2/1000 sccm
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: SS Plasma spray
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 3:
Aluminium (AlCu)
Process kit type: Al (SPA-10)
Target type: Single piece
Cathode type: SPA-10
Power supply: 20 kW
Tap setting: 2
T/S Spacing, 2.0"
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shields
Shield treatment: Stainless steel
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Chamber 4:
Molybdenum (Mo)
Process kit type: Mo (RMX-10)
Target type: Solder bond
Cathode type: RMX-10
Power supply: 10 kW
Tap setting: 2
T/S Spacing, 2.5"
Ar Entry: Door injection
Shield type: (2) Shield s
Shield treatment: SS Plasma spray
Darkspace: 0.062"
Backplane: Non-contact single zone
Standard chamber configuration:
8F Cryo pump
MKS Mass flow controllers
RGA Valve set: V4 Conflat
(3) Position gate valves
Non-contact backplane heaters
Frontplane: S/F Vent
Pod shields
Mainframe options:
Wafer holders with ceramic latches
Edge exclusion: 1.5 mm
Laminar blowers
Filters
SECS/GEM Communication
Wafer mapping control
Clamp rings:
Full face
Stainless steel
Facilities options:
Line frequency: 208 V
Line voltage: 60 Hz
Power rack cable length: 30 ft
Cryo compressor lines: 30 ft
Bottom feed utility lines
Other options:
Manuals
OEM Controller
Alignment tools
System shields: ICP, Ti, AICu, Mo
(5) Clamp ring wafer holder assemblies
Bell jar assemble.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV ist eine vollautomatisierte Sputteranlage, die in der Materialwissenschaft eingesetzt wird. Es ist für In-situ-Anwendungen wie Dünnschichtabscheidung, Oberflächenmodifizierung und Nanoarchitekturherstellung konzipiert. Dieses System ist mit einer fortschrittlichen Sputterpistole ausgestattet, die eine präzise Kontrolle über die Abscheiderate, das Profil und die Dicke von Filmen ermöglicht. Es ist auch in der Lage, mehrere Prozessabschnitte, die die parallele Abscheidung von verschiedenen Materialien auf verschiedenen Bereichen des Substrats ermöglicht. MRC Eclipse Mark IV nutzt ein Hochleistungs-HF/DC-Netzteil mit einem Frequenzbereich von 0 bis 13,56 MHz. Das Gerät hat einen verfügbaren Leistungsbereich von 1 bis 1.500 W. Die mehreren Sputterzonen ermöglichen die Abscheidung auf verschiedenen Teilen des Substrats mit unterschiedlichen Flüssen für jede Zone. Die Sputterpistole verwendet eine zylindrische Magnetronquelle und ist mit einem Kollisionsschutz ausgestattet, um die Ansammlung von Ionen um die Quelle zu verhindern. Eine Lastverriegelungseinheit dient der Substratübertragung und ermöglicht eine schnelle Verarbeitung großer Substrate. Die Maschine ist mit einem präzise programmierbaren Logikcontroller (PLC) programmiert, um die Bewegung und den Betrieb der Sputterpistole zu steuern. Die SPS kann zur Optimierung der Prozesssteuerung programmiert werden und bietet dem Anwender eine effiziente Plattform, um schnell die gewünschten Filmeigenschaften zu erfassen. Zusätzlich verfügt das Werkzeug über eine Vakuumkammer mit einer Schrupp- und einer Turbomolekularpumpe, die Ultrahochvakuum und einfache Bedienung ermöglicht. TEL Eclipse Mark IV hat auch fortschrittliche Hardware mit fortschrittlichen Überwachungs- und Steuerungssystemen. Diese Systeme sind in der Lage, den Druck, die Temperatur und die Leistung des Abscheidungsprozesses in Echtzeit zu überwachen. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheidungsparameter zur Bereitstellung eines wiederholbaren Prozesses und einer zuverlässigen Folie. Das Asset verfügt zudem über eine Touchscreen-Benutzeroberfläche, die eine intuitive Bedienung und Steuerung des Modells ermöglicht. Insgesamt ist Eclipse Mark IV eine hochmoderne Sputterausrüstung, die für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen entwickelt wurde. Es verfügt über hochpräzise Bewegungssteuerungssysteme, fortschrittliche Überwachungs- und Steuerungssysteme und eine benutzerfreundliche Schnittstelle, die es ideal für die Forschung und Entwicklung von Dünnschichtmaterialien macht.
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