Gebraucht MRC / TEL / TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV #9288402 zu verkaufen

Es sieht so aus, als ob dieser Artikel bereits verkauft wurde. Überprüfen Sie ähnliche Produkte unten oder kontaktieren Sie uns und unser erfahrenes Team wird es für Sie finden.

ID: 9288402
Wafergröße: 4"-6"
PVD System, 4"-6" Controller upgraded Power supply: 10 kW (3) PVD chambers (1) Etch chamber Ultra high vacuum system Atmospheric wafer handler Electronics and control system Wafer standard: SEMI Wafer handling: Standard wafer handling of fragile wafers Chamber 1: ICP Power supply: RF Generator Ar Entry: Door injection Shield type: (2) Shields Shield treatment: Stainless steel Backplane: Non-contact single zone Chamber 2: Titanium Nitride (Ti/TiN) Process kit type: TiN (RMX-10) Target type: Solder Bnd Cathode type: RMX-10 Power supply: 10 kW Tap setting: 3 T/S Spacing, 2.5" Ar Entry: Door injection Regas type: N2/1000 sccm Shield type: (2) Shields Shield treatment: SS Plasma spray Darkspace: 0.062" Backplane: Non-contact single zone Chamber 3: Aluminium (AlCu) Process kit type: Al (SPA-10) Target type: Single piece Cathode type: SPA-10 Power supply: 20 kW Tap setting: 2 T/S Spacing, 2.0" Ar Entry: Door injection Shield type: (2) Shields Shield treatment: Stainless steel Darkspace: 0.062" Backplane: Non-contact single zone Chamber 4: Molybdenum (Mo) Process kit type: Mo (RMX-10) Target type: Solder bond Cathode type: RMX-10 Power supply: 10 kW Tap setting: 2 T/S Spacing, 2.5" Ar Entry: Door injection Shield type: (2) Shield s Shield treatment: SS Plasma spray Darkspace: 0.062" Backplane: Non-contact single zone Standard chamber configuration: 8F Cryo pump MKS Mass flow controllers RGA Valve set: V4 Conflat (3) Position gate valves Non-contact backplane heaters Frontplane: S/F Vent Pod shields Mainframe options: Wafer holders with ceramic latches Edge exclusion: 1.5 mm Laminar blowers Filters SECS/GEM Communication Wafer mapping control Clamp rings: Full face Stainless steel Facilities options: Line frequency: 208 V Line voltage: 60 Hz Power rack cable length: 30 ft Cryo compressor lines: 30 ft Bottom feed utility lines Other options: Manuals OEM Controller Alignment tools System shields: ICP, Ti, AICu, Mo (5) Clamp ring wafer holder assemblies Bell jar assemble.
MRC/TEL/TOKYO ELECTRON Eclipse Mark IV ist eine vollautomatisierte Sputteranlage, die in der Materialwissenschaft eingesetzt wird. Es ist für In-situ-Anwendungen wie Dünnschichtabscheidung, Oberflächenmodifizierung und Nanoarchitekturherstellung konzipiert. Dieses System ist mit einer fortschrittlichen Sputterpistole ausgestattet, die eine präzise Kontrolle über die Abscheiderate, das Profil und die Dicke von Filmen ermöglicht. Es ist auch in der Lage, mehrere Prozessabschnitte, die die parallele Abscheidung von verschiedenen Materialien auf verschiedenen Bereichen des Substrats ermöglicht. MRC Eclipse Mark IV nutzt ein Hochleistungs-HF/DC-Netzteil mit einem Frequenzbereich von 0 bis 13,56 MHz. Das Gerät hat einen verfügbaren Leistungsbereich von 1 bis 1.500 W. Die mehreren Sputterzonen ermöglichen die Abscheidung auf verschiedenen Teilen des Substrats mit unterschiedlichen Flüssen für jede Zone. Die Sputterpistole verwendet eine zylindrische Magnetronquelle und ist mit einem Kollisionsschutz ausgestattet, um die Ansammlung von Ionen um die Quelle zu verhindern. Eine Lastverriegelungseinheit dient der Substratübertragung und ermöglicht eine schnelle Verarbeitung großer Substrate. Die Maschine ist mit einem präzise programmierbaren Logikcontroller (PLC) programmiert, um die Bewegung und den Betrieb der Sputterpistole zu steuern. Die SPS kann zur Optimierung der Prozesssteuerung programmiert werden und bietet dem Anwender eine effiziente Plattform, um schnell die gewünschten Filmeigenschaften zu erfassen. Zusätzlich verfügt das Werkzeug über eine Vakuumkammer mit einer Schrupp- und einer Turbomolekularpumpe, die Ultrahochvakuum und einfache Bedienung ermöglicht. TEL Eclipse Mark IV hat auch fortschrittliche Hardware mit fortschrittlichen Überwachungs- und Steuerungssystemen. Diese Systeme sind in der Lage, den Druck, die Temperatur und die Leistung des Abscheidungsprozesses in Echtzeit zu überwachen. Dies ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheidungsparameter zur Bereitstellung eines wiederholbaren Prozesses und einer zuverlässigen Folie. Das Asset verfügt zudem über eine Touchscreen-Benutzeroberfläche, die eine intuitive Bedienung und Steuerung des Modells ermöglicht. Insgesamt ist Eclipse Mark IV eine hochmoderne Sputterausrüstung, die für eine breite Palette von Dünnschichtabscheidungsanwendungen entwickelt wurde. Es verfügt über hochpräzise Bewegungssteuerungssysteme, fortschrittliche Überwachungs- und Steuerungssysteme und eine benutzerfreundliche Schnittstelle, die es ideal für die Forschung und Entwicklung von Dünnschichtmaterialien macht.
Es liegen noch keine Bewertungen vor