Gebraucht NOVELLUS CONCEPT One #150904 zu verkaufen

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Hersteller
NOVELLUS
Modell
CONCEPT One
ID: 150904
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1991
CVD System, 8" Process types: Undoped silane-base oxide Silicon nitride (2) Stages Transfer system: One arm robot Wafer on paddle sensor Cooling stage Software version: 4.431 RF Generator: ENI OEM 50, 13.56 MHz ENI PL-2HF, 400 kHz Match network: TRAZAR AMU2B-1 Match box Pressure control: TYLAN MDVHX-100B heated throttle valve with temperature controller TYLAN Throttle valve controller Independent gas cabinet Gas configuration: Mass flow controller: UNIT Gas types: N2, SiH4, C2F6, O2, NH3 Remote power AC box Currently warehoused 1991 vintage.
NOVELLUS CONCEPT One ist ein hochmoderner ALD-Reaktor (Advanced Atomic Layer Deposition), der für die Hochvolumenproduktion dünner, hochgleichmäßiger Folien entwickelt wurde. Der Reaktor ist eine Freigabeplattform für die kommerzielle Herstellung fortschrittlicher Elektronik. Es verfügt über eine Hochdurchsatzkammer mit einem großen Substrathalter. Dies ermöglicht die Herstellung eines breiten Spektrums von Halbleitermaterialien und -bauelementen einschließlich Speicherbauelementen, Elastomeren und Sensoren. ALD ist ein fortschrittliches Dünnschichtabscheidungsverfahren, das bei der Herstellung elektronischer Bauteile verwendet wird. Mit dem ALD-Verfahren werden atomare Materialschichten einzeln auf die Topographie eines Substratmaterials aufgebracht. Diese Steuerung ermöglicht eine sehr präzise und gleichmäßige Dünnschichtabscheidung über weite Bereiche. ALD ist ideal für die Herstellung von Dünnschichttransistoren, Speicherbauelementen, Lichtemittern und mikrobearbeiteten Aktoren. NOVELLUS CONCEPT ONE ist ein maßgeschneiderter ALD-Reaktor. Es kann bis zu 100 Wafer pro Stunde verarbeiten und ist in der Lage, spezifische Filmformulierungen aufzubringen. Es bietet konsistente Wafer-zu-Wafer-Dickenkontrolle, bis zu 0,2 nm und nichtflüchtigen Speicher für einfache Prozessentwicklung. CONCEPT One besteht aus vier Hauptkomponenten: dem Reaktorkopf, der Reaktorkammer, dem computergesteuerten Ventil und dem Transportsystem. Der Reaktorkopf hält Kathode und Anode, die zur Abscheidung und Steuerung des Stromflusses dienen. Die Reaktorkammer befindet sich dort, wo sich das Substrat befindet, und enthält das Gasfördersystem, das die Reaktanden in die Kammer einspritzt. Das Ventil steuert den Gasfluss und wird vom Rechner überwacht und eingestellt. Schließlich bewegt das Transportsystem die Substrate zur ultragleichen Drehzahl- und Temperaturregelung durch den Reaktor. CONCEPT ONE ist in der Lage, eine Vielzahl von Materialien abzuscheiden, darunter Metalle, Oxide, Nitride und eine breite Palette von Halbleitermaterialien wie Photovoltaik-Materialien, CIGS, CIS und andere fortschrittliche Halbleitermaterialien. Dies ermöglicht die Herstellung einer breiten Palette fortschrittlicher elektronischer Produkte einschließlich Sensoren und Halbleiterbauelementen. Abschließend ist NOVELLUS CONCEPT One ein fortschrittlicher ALD-Reaktor, der für die Serienproduktion ultradünner und einheitlicher Folien ausgelegt ist. Seine Eigenschaften umfassen die Kontrolle der Dicke von Wafer zu Wafer mit hohem Durchsatz und die Möglichkeit, eine breite Palette von Materialien zu verarbeiten. Dies hat die kommerzielle Herstellung einer breiten Palette fortschrittlicher elektronischer Komponenten ermöglicht.
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