Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #9257162 zu verkaufen

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ID: 9257162
Sputtering system, 6" Load lock chamber: LLC Type: Narrow body Indexer without rotation Wafer mapping CH Vent: Slow / Fast vent No wafer slide out detector Buffer chamber: AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD Robot Upper and lower motors (2) Gate valves Cryo pump: 3 Phase (7) Wafer sensors Transfer chamber: AGILENT / HP / HEWLETT-PACKARD Robot Upper and lower motors (2) Gate valves Cryo pump: 3 Phase (6) Wafer sensors Chamber A: Pass through Chamber B: Cool down Chamber A / B: Lid type: Clear plastic Wafer lift Wafer lift hoop No TC monitor Chamber E / F: Orienter degas Degas lamp module Wafer lift Wafer lift hoop Wafer chuck Orienter controller PCB Laser CCD array PCB No TC No TC amp Chamber 1: PVD Wide body Source assy: 11.3" Source bracket kit COH TI Adapter plate Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp MKS 100 mT Manometer Ar Backside (2) Gate valves Ion gauge Shutter option Cryo pump, 3 Phase Heater type: Clamp Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic 1/8 poly line set Chamber 2: PVD Wide body Source assy, 11.3" Source bracket kit Adapter plate: WB to STD 13" Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp MKS 100 mT Manometer Ar Backside (2) Gate valves Ion gauge Shutter option Cryo pump: 3 Phase Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set Chamber 3 / 4: PVD Wide body Source assy: 11.3" Source bracket kit Adapter plate: WB to STD 13" Wafer lift: Clamp Heater: Clamp Heater water box: Clamp MKS 100 mT Manometer Convectron gauge Ar Backside (3) Gate valves: PVD Ion gauge Shutter option Heater type Chamber harness Chamber inter-connect PCB Chamber process gas line Chamber vent line Chamber source water manifold Chamber pneumatic: 1/8 Poly line set Chamber C: PCII Etch Resonator Pedestal lift MKS Manometer Convectron gauge Ion gauge Turbo pump Wafer lift RF Match No process kit Chamber 1, 2, 3, 4, C: Gas panel assy MFC: STEC 4400 MFC Down steam valve Manual shut off valve MFC Control cable MFC Inter-connect PCB Sub-module: CTI-CRYOGENICS 9600 Cryo compressor (2) Cryo controllers: 3 Phase NESLAB III Chiller Vacuum pump System pump: BOC EDWARDS QDP40 PCII Pump: BOC EDWARDS QDP40 + MB250 System rack: VEM SBC SEI (12) DIO AI (2) AO (3) Opto PCB (2) AI MUX Cryo temp / AI MUX (4) Steppers PCB TC Gauge PCB (2) Ion gauges PCB (4) Invertron gauges PCB OMS PCB Hard Disk Drive (HDD) Floppy Disk Drive (FDD) (4) HTR Lift drivers, 2-Phase (6) Robot drives, 5-Phase RF Rack: RF / DC Rack (5) ISO Amp (4) DC / RF Generator interlocks PCB DC Power supply ADVANCED ENERGY MDX-L12 DC Generator CPS 1001 RF Generator RFPPLF10A RF Generator Missing parts: Metal blades Laser tubes Heater type: Clamp Cryo pump, 3 Phase Turbo controller RF / DC Rack ADVANCED ENERGY MDX-L Series DC Generator RF Generator, 13.56 MHz / 400 kHz Power supply: AC Rack type: 480 VAC, 3 Phase, 4+1 Wire with transformer DC Power supply: +5 VDC / +24 VDC DC Power supply: +/-15 VDC / +/-12 VDC 2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 ist ein Hochdichteplasmareaktor auf Halbleiterbasis für Wet Etching. Dieser Reaktor wurde entwickelt, um eine überlegene Gleichmäßigkeit in der Produktion und Konstruktion fortschrittlicher integrierter Schaltungen zu gewährleisten. Es bietet eine breite Palette von Optionen für Plasmaressourcen sowie hochmoderne Funktionen zur Prozesssteuerung und -überwachung. Das AKT Endura 5500 Aktionssystem wurde entwickelt, um die Prozessabweichung zu reduzieren und gleichzeitig die Leistung und den Ertrag zu verbessern. AMAT ENDURA 5500 ist als Galliumnitrid (GaN) -Ätzverfahren ausgelegt. Es verfügt über ein diodengepumptes Pulsplasmaquellenmodul, ein Prozesssteuermodul und ein Ätzmodul. Die Puls-Plasmaquelle ist eine Hochdruck-Hochleistungseinrichtung, die eine Feinsteuerung von Plasmaparametern zur Verbesserung der Ätzleistung ermöglicht. Das Prozesssteuerungsmodul bietet Flexibilität für verschiedene Produktionsanforderungen. Es ist in der Lage, mehrere Gasleitungen und Förderventile zu steuern, sowie einfaches Echtzeit-Schalten mehrerer Ätzparameter, wie: Gasdruck, Plattenspannung, Ätzzeit, Plattenspannungsvorspannung, Kammertemperatur und andere. Das Ätzmodul soll Flexibilität, Beschleunigung des Ätzprozesses und Gleichmäßigkeit der Ätzmuster bieten. Es verfügt über ein replizierbares Plattendesign, um mögliche Prozessabweichungen zu reduzieren und gleichzeitig spezielle Plattendesigns für spezielle Ätzprozesse zu ermöglichen. AKT ENDURA 5500 ist ein hochzuverlässiger Reaktor mit geringem Wartungsaufwand. Es ist in der Lage, niedrige Defektrate zu erreichen, unter Beibehaltung hoher Produktausbeuten. Der Reaktor ist für einfache Bedienung mit intuitiver Benutzeroberfläche und einfacher, schrittweiser Prozessunterstützung ausgelegt. Sie liefert Prozessingenieuren und Produktionspersonal wertvolles Feedback zu den Prozessergebnissen, was schnellere Zykluszeiten und verbesserte Erträge ermöglicht. Dieser Reaktor ist auch auf Langzeitstabilität und Wiederholbarkeit von Prozessparametern für Produktion und Technik ausgelegt. Insgesamt ist AMAT Endura 5500 ein hochentwickelter, zuverlässiger und einfach zu bedienender Plasmareaktor mit hoher Dichte für Wet Etching. Es wurde entwickelt, um eine verbesserte Prozesssteuerung, einheitliche Ätzmuster und verbesserte Produktausbeuten bereitzustellen. Es ermöglicht einfachere, schnellere und wiederholbare Prozesse und liefert Ingenieuren und Produktionspersonal wertvolles Feedback zu den Prozessergebnissen.
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