Gebraucht AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II #9080130 zu verkaufen

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ID: 9080130
Tungsten CVD sputter system Includes: (2) Centura WXz chambers (1) Centura WxP 200 chamber Remote frame Generators: No Robot and linkage (3) Flowmeters for the process cooling water on the back Electronics rack: 15V Power supply Missing part: Robot blade Currently de-installed.
AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein Hochleistungs-Ätzreaktor für anspruchsvollste Ätzanwendungen. Dieser Reaktor verfügt über eine breite Palette von Fähigkeiten wie Depletion und Anreicherung Ätzen, ionengestützte Ätzung, physikalische Dampfabscheidung (PVD) und reaktive Ionenätzverfahren (RIE). Mit einer patentierten UKW-Magnetronquelle und der Fähigkeit, eine Plasmadichte von bis zu 5 x 1012 cm-3 zu erreichen, verfügt dieser Reaktor über die erforderliche Leistung, um erstklassige Ergebnisse zu gewährleisten. AMAT P5000 Mark II bietet eine hervorragende Substrattemperaturregelung mit einem Temperaturbereich von - 25℃ bis 75℃ und einer Toleranz von ±1℃ für einen Temperaturbereich von bis zu 300℃. Es verfügt auch über einen hocheffizienten Source Mover für optimale Quellenplatzierung und gleichmäßig ausgezeichnetes Ätzen über alle Substrate. Sein Magnetron-Design optimiert die Verhältnisse zwischen Ionenfluss, Ionenenergie und Quellleistung, um hohe Ätzraten, geringe Substratschäden und optimale Gleichmäßigkeit zu gewährleisten. Der modulare Aufbau von APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II gewährleistet sowohl Flexibilität als auch Verbesserungsfähigkeit, so dass Benutzer Upgrademodule nahtlos installieren können, z. B. das optionale Remote-Wafer-Fore-Vacuum-System. Dieses System ermöglicht die unterbrechungsfreie Bearbeitung mehrerer Wafer, was einen hocheffizienten Ätzprozess gewährleistet. Die Konstruktion ermöglicht auch die Steuerung und Vermeidung des parasitären Ätzens durch Einstellung der Prozessparameter. AMAT/APPLIED MATERIALS P 5000 MARK II ist mit einem hochpräzisen Controller ausgestattet, der auf hohe Prozessanforderungen zugeschnitten ist. Mit einer patentierten adaptiven Kammertechnologie erreicht die Steuerung höhere Präzision, bessere Gleichmäßigkeit und ein breiteres Prozessfenster. Die Einstellungen können mit der intuitiven Touchscreen-Oberfläche einfach konfiguriert werden. Zusätzlich kann der Controller mit verschiedenen Arbeitszellen-Systemen für ultimative Kontrolle und Effizienz verbunden werden. Schließlich wurde dieser Reaktor für eine verbesserte Sicherheit ausgelegt. Seine Haltbarkeit und seine Schutzeigenschaften erfüllen die höchsten Sicherheitsanforderungen und gewährleisten einen konformen Betrieb. Außen verfügt P5000 Mark II über niederschwellige Sicherheitsabdeckungen, integrierte Sicherheitszeichen und Signale sowie eine Kammerschutzschicht aus nichtmagnetischem Edelstahl. Kurz gesagt, APPLIED MATERIALS P5000 Mark II ist ein unglaublich fortschrittlicher Ätzreaktor für die ultimative Ätzleistung. Es bietet unübertroffene Präzision, Zuverlässigkeit und Sicherheit, um konsistente und qualitativ hochwertige Ergebnisse zu gewährleisten.
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