Gebraucht BUHLER / LEYBOLD OPTICS Star #9244433 zu verkaufen
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Verkauft
ID: 9244433
Sputtering system
Loading capacity: (2) Pair of lenses
Maximum substrate Ø: 80 mm / 3.15"
Process gases: N2, O2, Ar
Remote access: LAN / WLAN / Air card
Cycle time (4-Layer AR): 10 min
Sputter target: Silicon (Si)
Sputter power supply: DC Pulsed
Sputter rate SiO2: 1.2 - 2.0 nm/s
Sputter rate Si3N4: 0.7 - 1.2 nm/s
Includes:
LEYBOLD OPTICS PK150 Cathode
Electrical cabinet
Sputter cathode
Substrate lift device
Substrate rotary drive
Turbo pump
Water chiller
Mechanical pump
Handling system
Gate valve
Shutter
Cathode: Swiveled 90° up
Operator terminal
With touch screen interface
Process chamber / Load lock
With entry load lock chamber
Electrical supply:
Electrical cabinet
Power supply for sputter source
Media supply:
Process gasses
Water chiller
Power and compressed air.
BUHLER/LEYBOLD OPTICS STAR ist eine hochpräzise Sputteranlage auf Vakuumbasis, die zum Abscheiden von Dünnschichtbeschichtungen auf ebenen und gekrümmten Oberflächen entwickelt wurde. Das System bietet eine überlegene Substrat-zu-Ziel-Abstandseinstellung mit einem Bereich von +/- 6 mm und einer Schrittauflösung von 0,5 mm. Es enthält auch eine erweiterte Regelkreis-Rückkopplungseinheit mit drei separaten Kanälen, um eine präzise Steuerung des Sputtervorgangs zu ermöglichen. Die Maschine nutzt eine Hochvakuumkammer mit automatisierten Prozessen, um einen effizienten und sicheren Betrieb zu ermöglichen. Der maximale Sputterdruck beträgt 1 mbar und das Werkzeug hält den Druck mit einer Turbomolekularpumpe aufrecht. Die Kammertemperatur wird mit einer Genauigkeit von 0,1 ° C im Bereich von -30 ° C bis 150 ° C gehalten. Das Asset nutzt eine „magnetronbasierte“ Sputterquelle und eine „diodenbasierte“ Sputterquelle für eine effiziente Filmabscheidung. Beide Quellen ermöglichen einstellbare Sputterraten und Pulsdauern für eine hohe Genauigkeit der Abscheidung. Zusätzlich können die Targets für schräg gesputterte Ablagerungen geneigt (± 20 °) werden. Das Modell enthält auch eine fortschrittliche In-situ-Überwachungsausrüstung zur Messung der Sputterrate und der Filmdicke. Der In-situ-Monitor misst die Schichtdicke auf dem Substrat mittels laserbasierter Techniken in Millisekunden. Darüber hinaus kann das System in die Analyse der chemischen Zusammensetzung in der Zielgruppe integriert werden, wobei eine transversale spiralförmige Dual-Fitting-Technik verwendet wird, um die Zusammensetzung während des kontinuierlichen Sputterns in Echtzeit zu messen. Die Einheit ist so konzipiert, dass sie in einem Ein- oder Mehrpositionsmodus arbeitet und eine gleichzeitige Abscheidung auf mehreren Substraten ermöglicht. Sie kann auch zur sequentiellen Schichtabscheidung im Wechsel zwischen Sputter- und Ionenstrahlquellen verwendet werden. Die Modularität der Maschine macht es auch einfach, zusätzliche Komponenten wie eine Be-/Entladestation zu integrieren, um Effizienz und Durchsatz weiter zu erhöhen. BUHLER Star wurde entwickelt, um die anspruchsvollen Anforderungen der Präzisionssputterbeschichtung zu erfüllen, insbesondere in Industrien wie Optik, Elektronik und Luft- und Raumfahrt. Das Werkzeug ist zuverlässig und einfach zu bedienen und bietet eine ideale Plattform für die Filmabscheidung.
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