Gebraucht CANON / ANELVA I-1060 SVII Plus 1 #9018208 zu verkaufen

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CANON / ANELVA I-1060 SVII Plus 1
Verkauft
ID: 9018208
Wafergröße: 8"
Weinlese: 1997
Sputtering system, 8" 1997 vintage.
CANON/ANELVA I-1060 SVII Plus 1 ist eine Sputteranlage zur Herstellung von Hochleistungsflächen und dünnen Folien. Es besteht aus einer hochenergetischen Ionenquelle, die bis zu 10kV entweder Argon oder Xenon-Ionen emittieren kann, einem hochpräzise rotierenden Produktionsziel, einer rotierenden Halterung für das Produktionsziel, einem Gasverteilermodul, einer Kathode, einer Anode und einem modernen Regelsystem. Die Ionenquelle der Einheit wurde optimiert, um die Ionen-Atom-Emission zu maximieren. Es ist in der Lage, Ionenstrahlen mit einer sehr optimalen Dichte von 10 ^ 14 cm-2s-1 und einer Strahlenergie bis zu 10kV zu erzeugen. Das hochpräzise rotierende Produktionsziel sorgt für eine gleichmäßige Abscheidung des auf das Grundmaterial aufgebrachten Materials. Die Temperatur und die Atmosphäre innerhalb der Kammer kann für unterschiedliche Oberflächenbehandlungen wie Ätzen, Abscheiden, Reinigen und Substratvorbehandlung genau eingestellt und gesteuert werden. Die Maschine ist auch mit einem Gasverteilungsmodul ausgestattet, das für die endgültige Gleichmäßigkeit der Prozessgase verantwortlich ist. Je nach Anwendung und Grundmaterial können verschiedene Gase wie Wasserstoff, Stickstoff, Sauerstoff, Argon, Chlor und Xenon für unterschiedliche Prozesse eingesetzt werden. Die Gasleitungsverteilung wird elektronisch gesteuert und ermöglicht eine gleichmäßige Gasverteilung über das gesamte Produkt. Das Tool beinhaltet auch ein modernes Controller-Asset, das mit verschiedenen externen Geräten verbunden ist. Die benutzerfreundliche Oberfläche bietet Echtzeit-Datenüberwachung sowie eine breite Palette von Tools, um Anwendern zu helfen, die gewünschten Parameter schnell und einfach zu erreichen. Das Controller-Modell gibt Benutzern auch die Möglichkeit, verschiedene Rezepte für verschiedene Prozesse zu programmieren. CANON I-1060SVII PLUS-1 ist ideal zum Sputtern von Dünnschichtschichten auf Substraten durch verschiedene Verfahren wie hochpräzise Abscheidung, Hartbeschichtung, Sputtern, chemische Dampfabscheidung (CVD) und physikalische Dampfabscheidung (PVD). Es wurde entwickelt, um Rückstände zu minimieren und den Beschichtungsprozess zu optimieren. Durch die ideale Kombination von Präzision, Kontrolle, Gleichmäßigkeit und Genauigkeit kann die Ausrüstung verwendet werden, um qualitativ hochwertige Produkte in einer Vielzahl von Bereichen zu produzieren.
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